Дипломы, курсовые, рефераты, контрольные...
Срочная помощь в учёбе

Физико-химические основы низкотемпературного осаждения карбидов вольфрама и их композиций из летучих фторидов при пониженных давлениях

Диссертация: Физико-химические основы низкотемпературного осаждения карбидов вольфрама и их композиций из летучих фторидов при пониженных давлениях
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Низкотемпературный CVD синтез пленок карбидов вольфрама и их композиций является уникальным методом упрочнения поверхности конструкционных материалов. Метод позволяет формировать твердое и беспористое покрытие с хорошей адгезией к конструкционным материалам. Твердый слой можно получать заданной толщины на изделиях любой сложной формы с гладкой морфологией поверхности роста, так чтобы ее можно… Читать ещё >

Содержание

  • ГЛАВА I. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР
    • 1. Анализ существующих методов нанесения упрочняющих покрытий
      • 1. 1. Насыщение поверхности стали примесями внедрения
      • 1. 2. Диффузионное насыщение поверхности примесями 15 замещения
      • 1. 3. Электрохимические композиционные покрытия
      • 1. 4. Газотермическое напыление твердых слоев
      • 1. 5. Методы с применением физических полей
      • 1. 6. Газофазно-диффузионный метод упрочнения поверхности
      • 1. 7. Низкотемпературные газофазные методы нанесения покрытий

Физико-химические основы низкотемпературного осаждения карбидов вольфрама и их композиций из летучих фторидов при пониженных давлениях (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Актуальность работы. Высокий уровень развития современного машиностроения, термоядерной энергетики, ежегодное увеличение объемов металлообработки, предъявляет ряд жестких требований к конструкционным материалам, особенно к материалам, работающим в экстремальных условиях. Повышение технических и экономических требований ставит вопрос о разработке новых твердых покрытий способных противостоять абразивному, коррозионному износу, эрозии под воздействием высоких давлений, температур и энергий. Это направление определяет новую область науки о материалах — инженерию поверхности.

Несмотря на кажущееся многообразие технологий упрочнения металлических поверхностей, твердых покрытий, удовлетворяющих основным требованиям машиностроения, практически нет. Поэтому создание новых технологий формирования твердых покрытий весьма актуально. Среди последних, ведущую роль играют газофазные методы, которые представляют собой нанотехнологии формирования твердых слоев конструкционного назначения. Создание новых газофазных методов и совершенствование ныне существующих невозможно без детального понимания механизма физико-химических элементарных процессов кристаллизации неорганических материалов из газовой фазы и в частности, фторидных процессов.

Низкотемпературный CVD синтез пленок карбидов вольфрама и их композиций является уникальным методом упрочнения поверхности конструкционных материалов. Метод позволяет формировать твердое и беспористое покрытие с хорошей адгезией к конструкционным материалам. Твердый слой можно получать заданной толщины на изделиях любой сложной формы с гладкой морфологией поверхности роста, так чтобы ее можно легко довести до нужного класса чистоты.

В связи с этим изучение физико-химических закономерностей данного фторидного процеса, а также физико-механических свойств наноструктурных карбидовольфрамовых слоев, является важным направлением исследований в области низкотемпературного газофазного химического осаждения твердых слоев.

Исследования, представленные в работе, поддержаны грантами РФФИ № 06 -08 — 276 (2006 — 2008 г. г.) и № 09 — 08 — 182 (2009 — 2011 г. г.) — В работе нашли отражение исследования, проводимые по постановлениям директивных органов и хозяйственным договорам с различными предприятиями России. Цель работы.

• Изучение физико — химических законномерностей низкотемпературного синтеза карбидов вольфрама из газовой фазы при пониженных давлениях на основе развития представлений о химической кристаллизации и детального анализа термодинамики, кинетики и механизма синтеза композиций системы вольфрам — углерод из фторидной среды.

• Исследование особенностей структуры и свойств карбидовольфрамовых слоев.

Научная новизна.

1. Впервые изучен равновесный состав газовой и конденсированной фаз в системе вольфрам — фтор — углерод — водород в широкой области температур и давлений, причем в базу термодинамических данных добавлены термохимические константы ранее неизученного субкарбида вольфрама (W3C).

2. Определены макрокинетические характеристики осаждения карбидов вольфрама различной стехиометрии, по единой методике.

3. Впервые проведен детальный анализ гомогенных и гетерогенных элементарных стадий химического превращения в системе W — F — С — Н. Показано, что среди гомогенных реакций с достаточной скоростью могут протекать только реакции образования фторуглеводородов в газовой фазе. Предложен наиболее вероятный путь протекания гомогенных и гетерогенных реакций, приводящих к синтезу карбидов вольфрама.

4. Изучены физико — механические свойства карбидовольфрамовых пленок, их морфология, микроструктурное состояние и фазовый состав. Определены тип и параметр решетки ранее не изученных субкарбидов вольфрама.

5. Установлено, что стойкость к абразивному износу пленки W2C толщиной 20 мкм по сравнению с твердым сплавом ВК-6 в случае сухого трения в 2 раза выше, а в присутствии смазки в 10 раз.

6. Впервые определен коэффициент диффузии дейтерия в пленках моно и полукарбида вольфрама, который описывается следующим выражением.

1 9.

D = 1.33×10″ ехр{-(123±-10 кДж/моль)/КТ} м" /с и показано, что слои карбидов вольфрама W2C и WC, полученные газофазным химическим осаждением, являются наиболее эффективными материалами, препятствующими диффузии дейтерия, по сравнению с вольфрамом.

Практическая значимость.

Проведенные исследования дают представления о химическом осаждении карбидов вольфрама из газовой фазы. Это позволяет на их основе управлять процессами формирования нанокристаллических пленок заданной фазы и физико-механическими свойствами в пространстве контролируемых параметров, что перспективно для создания новых типов наноструктур, включая многослойные периодические сверхструктуры.

Перспективно использование карбидовольфрамовых покрытий на рабочих поверхностях деталях нефтегазодобывающего оборудования и других узлах трения, работающих в условиях интенсивного абразивного и эрозионного износа.

Слои из вольфрама и карбидов вольфрама, полученные разработанным газофазным методом, перспективны в качестве материалов дивертора токомака ИТЭР.

На защиту выносятся: • Закономерности, отражающие термодинамический выход конденсированных фаз из газообразной смеси гексафторида вольфрама, водорода и углеродсодержащего соединения.

• Макрокинетические характеристики процессов осаждения карбидов вольфрама различной стехиометрии.

• Физико-химическая модель, описывающую протекание элементарных гомогенных и гетерогенных актов химического превращения гексафторида вольфрама, пропана, водорода на растущей поверхности.

• Результаты, описывающие влияние содержания углерода (в пределах 0,86,5 масс.%) в карбидовольфрамовых слоях на микротвердость и формирование наноструктуры, обеспечивающие экстремально высокую износостойкость (в 2−10 раза выше изностойкости твердого сплава ВК-6 и почти в 80 раз — Ст. 45).

• Экспериментальные результаты по диффузии дейтерия в карбидовольфрамовых слоях при воздействии низкоэнергетической (-200 эВ/D) дейтериевой плазмы в интервале температур от 300 до 813 К вплоть до дозы 2×1024 D/м2 и ионами дейтерия с энергией 10 кэВ/D при температуре 300−323 К до дозы 1×1023 D/m2.

Апробация работы. Материалы диссертации представлены на: The European Corrosion Congress — EUROCORR 2003 (Budapest, September 28 -October 2, 2003, Hungary), Nanotechnology in Northern Europe — NTNE 2006 Congress and Exhibition (Helsinki, May 16 — 18, 2006, Finland), Международной научно-технической конференции «Актуальные вопросы авиационного материаловедения» (Москва, 26 — 27 июня 2007), European Congress and Exhibition on Advanced Materials and Processes — EUROMAT 2007 (Nurnberg, September 10 — 13, 2007, Germany), XVIII Менделеевском съезде по общей и прикладной химии (Москва, 23 — 28 сентября 2007 года), XX Всероссийского совещания по температуроустойчивым функциональным покрытиям (С-Петербург, 27 — 28 ноября 2007 г), 1st International Conference on New Materials for Extreme Environments — ExtreMat (San — Sebastian, June 1 — 5, 2008, Spain), Международном симпозиуме «Перспективные материалы и технологии» (Витебск, 25 — 29 мая 2009, Республика Беларусь), Всероссийской конференции «Фторидные технологии» (Томск, 21 — 23 июля 2009). коллоквиумах и конкурсах молодых ученых Учреждения Российской Академии Наук ИФХЭ РАН.

Публикации. По материалам диссертации опубликовано 20 работ, в том числе 9 статей в рецензируемых изданиях и 11 тезисов докладов на Всероссийских и Международных конференциях.

ВЫВОДЫ.

1. Впервые исследован равновесный состав газовой и конденсированных фаз в системе W-F-C-H в широкой области температур и давлений, причем в базу термохимических данных добавлены константы ранее неизученного субкарбида вольфрама (W3C).

2. Экспериментально определены основные макрокинетические характеристики осаждения карбидов вольфрама. Кажущаяся энергия активации процесса осаждения WC составляет величину 27,9 кДж/моль, W2C — 36,1 кДж/моль, W3C — 55,1 кДж/моль.

3. По единой методике при 773−923 К были синтезированы: монокарбид вольфрама с гексагональной и кубической решеткой, гексагональный полукарбид и два кубических субкарбида вольфрама, а также их смеси.

4. Предложен детальный механизм синтеза карбидов вольфрама, согласно которому финальной стадией является взаимодействие выделившегося атома вольфрама с адсорбированным CH3 °F .

5. Установлено, что микротвердость карбидных слоев изменяется в пределах 25−42 ГПа, а слои обладают нанослоистой или нанокристаллической структурой. Износостойкость пленки W2C почти в 2 раза выше, чем у твердого сплава ВК-6, а в присутствии смазки — в 10 раз. Кроме того, удельный износ слоя W2C почти в 80 раз меньше, чем Ст. 45.

6. Впервые определен коэффициент диффузии дейтерия в карбидах вольфрама и показано, что слои карбидов вольфрама W2C и WC (i.X), наиболее эффективно затрудняют диффузию дейтерия. Установлено, что накопление дейтерия в слоях из карбидов вольфрама происходит только в виде атомов в отличие от монокристаллического вольфрама.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Ю.М., Арзамасов В. Н. Химико-термическая обработка металлов. — М.: Металлургия, 1985. — 256 с.
  2. Материаловедение: Учебник для вузов / В. Н. Арзамасов, В. И. Макарова, Г. Г. Мухин и др. М.: Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2005. — 648 с.
  3. Химико-термическая обработка металлов и сплавов. Справочник / Под ред. Л. С. Ляховича. -М.: Металлургия, 1981. 424 с.
  4. Р.С. Композиционные покрытия и материалы. — М.: Химия, 1977.-272 с.
  5. A.M., Анцифиров В. Н., Буланов В. Я., Ханов A.M. Проблемы порошкового материаловедения. Часть VI. Плазменно-лазерные покрытия. Екатеринбург: УрО РАН. 2006. — 588 с.
  6. В.В., Иванов В. М. Нанесение плазмой тугоплавких покрытий. М.: Машиностроение, 1981. — 192 с.
  7. Л. Н., Борисенко А. И. Применение плазмы при получении высокотемпературных покрытий. — М.: Наука, 1965. — 198 с.
  8. Л.Х. Реновация и упрочнение деталей машин методами газотермического напыления. М.: КХТ, 2004. — 134 с.
  9. А.Ф. Пузряков Теоретические основы технологии плазменного напыления. М.: Издательство МГТУ, 2003. — 360 с.
  10. Ю.Хромов В. Н. Верпов В.Т., Коровин А. Я. и др. // Сварочное производство. 2001. — № 2. — С. 39−48.
  11. Дороднов А.//Наука и техника, 1980.-№ 11.-С. 21−23.
  12. М., Васантасри В., Сидки П. Металлические и керамические покрытия. М.: Мир, 2000. — 516 с.
  13. А.Н., Захаров Б. В., Тона Э. Р. // Защитные покрытия на металлах. 1977.-Вып. 11.-С. 81−83.
  14. Н.А., Рева А. Т. // Защитные покрытия на металлах. -1971- Вып.5. — С. 65−68.
  15. И.С. Применение хлора в металлургии редких и цветных металлов. М.: Наука, 1966. — 250 с.
  16. В.Ф., Чернега С. М., Хижняк В. Г. //Вопросы судостроения Сер. Судоверфь. Технология и организация производства. — 1985.-Вып.8.-С. 40−44.
  17. А.Н. Химико-термическая обработка металлов и сплавов. -М.: Машиностороение, 1965. 331 с.
  18. В.Ф., Хижняк В. Г., Евтушенко О. В. // Защитные покрытия на металлах. — 1981. Вып. 15. — С. 48−52.
  19. А.И. // Цветные металлы. 1973. — № 7. — С. 78−79.
  20. Сыркин В.Г. CVD-метод. Химическое парофазное осаждение. — М.: Наука, 2000.-496 с.
  21. Darnell et al. Патент, США № 3,368,914 1968
  22. Lewin and Hayman Патент, США № 3,814,625 1974
  23. Archer N.J. Tungsten Carbide Coatings Formed on Steel. // Proceccing of the Conference on Chemical Vapour Deposition, Fifth Int’l Conference 1975, The Electrochemical Society, Inc., Princeton, N.J.
  24. Патент JP 84 204 563 A 1984.
  25. Патент JP 84 280 063 A 1984.26. Патеш-JP 9 113 527 A- 1991.
  26. Archer N.J. British Patent 1.326.769 1973
  27. Archer N.J., Yee K.K. Chemical Vapour Deposited Tungsten Carbide Wear-Resistant Coatings Formed at Low temperatures // Wear. 1978. — V. 48. — p. 237−250.29. Патент JP 8 857 301 A- 1988
  28. Holzl R.A. Патент, США № 4,162,345 1979
  29. Holzl R.A., Benander R.E., Davis R.D. Патент, США № 4,427,4 451 984
  30. D. Garg. K. Beth. D. Paul et al. Патент, США № 4.874.642 1989.
  31. А.И., Нечаев В. В., Гаврилов И. И. // Металлургия и металловедение чистых металлов. М.: Атомиздат, — 1975. -Вып.11. — С. 1014.
  32. .Г. Моделирование химических и фазовых равновесий при высоких температурах (АСТРА-4/рс). М.: МГТУ им. Н. Э. Баумана, 1994.-50 с.
  33. Я.Б. // Журнал физизической химии. 1938. — Т. 11, -Вып.5. — С. 685−687.
  34. Ю.Н., Голованов Ю. Н., Красовский А. И. // Цв. металлы. -1969. -№ 10.-С. 61−63.
  35. Ю.В. Физико-химические основы осаждения металлов и сплавов системы вольфрам-рений из смеси их гексафторидов с водородом: Дис. канд. хим. наук: М., 1979. — 161 с.
  36. Ю.В., Красовский А. И. // Изв. АН СССР. Металлы. -1982. -№ 3. С. 27−31.
  37. Горелик С. С, Расторгуев Л. Н., Скаков Ю. А. Ренгенографический и электронографический анализ. М. Металлургия, 1970. — 366 с.
  38. PDF-2 Data Books Sets 1−59 Inorganic and Organic Data, ICDD, -Newtown Square, 2009. 250 p.
  39. M.M., Беркович E.C. Приборы ПМТ-2 и ПМТ-3 для испытаний на микротвердость. М.: Изд-во АН СССР, — 1950.-48 с.
  40. К., Лифшиц В. Г., Саранин А. А., Зотов А. В., Катаяма М. Введение в физику поверхности. — М.: Наука, 2006. — 490с.
  41. Триботехника антифрикционных, фрикционных и сцепных устройств. Методы и средства триботехнических испытаний. / Под. Ред. М. Хебды и А. В. Чичинадзе. М.: Машиностроение, 1992. — 628 с.
  42. Alimov V.Kh., Gorodetsky А.Е., Zakharov A.P. Types of traps for deuterium implanted into graphite // J. of Nucl. Mater. 1991. — V. 186. — P. 27−32.
  43. Alimov V. Kh, Mayer M., Roth J. Differential cross-section of the D (3He, p)4He nuclear reaction and depth profiling of deuterium up to large depths // Nucl. Instr. Meth. 2005. — V. B234. — P. 169−175.
  44. Altstetter C.J., BehrischR., BottigerJ., Pohl F., Scherzer B.M.U. Depth profiling of deuterium implanted into stainless steel at room temperature // Nucl. Instr. Meth. 1978. — V. 149. — P. 59−64.
  45. Hughes I.G., Behrisch R., Martinelli A.P. Depth profiling of deuterium using nuclear reaction analysis // Nucl. Instr. Meth. 1993. — V. B79. — P. 487−489.
  46. Mayer M. SIMNRA user’s guide, Tech. Rep. IPP 9/113. Max-Planck-Institut ftir Plasmaphysik. Garching, 1997. — 160 p.
  47. Andersen H.H. and Ziegler J.F. Hydrogen stopping powers and all ranges in all elements // The Stopping and Ranges of Ions in Matter. — V. 3. — N.Y.: Pergamon Press, 1977. — 318 p.
  48. Ziegler J.F. Helium stopping powers and all ranges in all elements // The Stopping and Ranges of Ions in Matter. — V. 4. — N.Y.: Pergamon Press, 1977.-368 p.
  49. Э. Тугоплавкие карбиды. M.: Атомиздат, 1970. — 304 с.
  50. Г. В., Витрянюк В. К., Чаплыгин Ф. И. Карбиды вольфрама. М.: Наука, 1966. — 250 с.
  51. Р., Шварцкопф П. Твердые сплавы. М.: Металлургиздат, 1957.-224 с.
  52. Физико-химические свойства окислов. Справочник. / Под ред. Г. В. Самсонова и др. М.: Металлургия, 1978. — 472 с.
  53. Chase, M.W., Jr., NIST-JANAF Themochemical Tables, Fourth Edition, // J. Phys. Chem. Ref. Data. 1998. — Monograph 9. — P. 1−1951.
  54. Ehlert, T.C., Bonding in Ci and C2 fluroides // J. Phys. Chem. 1969. -V.73.-P. 949−953.
  55. Neugebauer, C.A.- Margrave, J.L. The heats of formation of CHF3 and CFI2F2 // J. Phys. Chem. 1958. — V.62. — P. 1043−1048.
  56. Lias, S.G.- Karpas, Z.- Liebman, J.F. Halomethylenes: effects of halogen substitution on absolute heats of formation // J. Am. Chem. Soc. 1985. -V.107.-P. 6089−6096.
  57. Goy, C.A.- Lord, A.- Pritchard, H.O. Kinetics and thermodynamics of the reaction between iodine and fluoroform and the heat of formation of trifluoromethyl iodide // J. Phys. Chem. 1967. — V.71. — P. 1086−1089.
  58. Термические константы веществ. Справочник: в Ют. / Под ред. В. П. Глушко. М.: Изд-во АН СССР. — С. 1962−1981.
  59. D.L. // J. Chem. Phys. 1975. — V. 62, — № 8. — P. 30 743 079.
  60. М.Б., Лахоткин Ю. В., Кузьмин В. П. и др. Термодинамические и кинетические факторы химического осаждения тугоплавких металлов 5−7 групп из газовой фазы их летучих фторидов и водорода. М., 1987. — 10 с. Деп. в ВИНИТИ. 10.09. 87, № 6639.
  61. . R., Pollard R. // J. Electrochem. Soc. 1991. -V. 138. -№ 5. -P. 1523−1537.
  62. A.B., Первов B.C., Готкис И. С. и др. // ДАН СССР. -1974. -Т. 216. № 6. — С. 1296−1299.
  63. Молекулярные постоянные неорганических соединений: Справочник. / Под ред. К. С. Краснова. Л.: Химия, 1979. — 448 с.
  64. Van Arkel А.Е., de Boer J.H. // Ztschr. anorg. and allg. Chem. 1925. -Bd. 148.-S. 345−350.
  65. V.L., Lakhotkin Yu.V., Kuzmin V.P., Alimov V.Kh., Roth J. //Advanced Materials Research. 2009. — V. 59. — P. 62−65.
  66. Фторидный процесс получения вольфрама. Физико-химические основы. Свойства металла. М.: 1981. —261 с.
  67. Ю.М., Столяров В. И. Восстановление фторидов тугоплавких металлов водородом. М.: Металлургия, 1985. — 158 с.
  68. Ю.В. Физико-химические основы осаждения сплавов вольфрама с переходными металлами V—VII групп из парогазовой смеси их фторидов с водородом: Дис. докт. хим. наук: — М., 1994. — 336 с.
  69. Chen. W, Roberts J.T. Adsorption and reaction of WF6 on W (100) // Surface Science. 1995. -V. 324. — P. 169 — 184.
  70. G., Blais J.C. // Surface Sci. 1984. -V. 137. — № 1. — P. 327−332.
  71. Kuijlaars К .J., Kleijn C.R., van der Akker H.E.A. A detailed model for low-pressure CVD of tungsten // Thin solid films. 1995. — V.270. — p. 456 — 461.
  72. W. // Trans. Amer. Soc. Stell. Treatm. 1930. — V. 18. — P. 968.
  73. R.A. //J. Amer. Cer. Soc. 1965. — V. 48. — P.243.
  74. Yvon K., Nowotny H., Benesovsky // F. Monatsh. Chem. 1968. V. 99.-P.276.
  75. Р.П. Структуры двойных сплавов. М.: Металлургия, 1970.-315 с.
  76. Orton G.W. Thesis Ph.D. Ohio State University, 1961.
  77. A. S. Kurlov and A. I. Gusev. // Neorganicheskie Materialy. 2006, -V. 42. — №. 2.-P. 156−163.
  78. Rudy, E. and Windisch, S. Evidence to Zeta Fe2N-Type Sublattice Order in W2C at Intermediate Temperatures //J. Am. Ceram. Soc. 1967. -V. 50. -№. 5.-P. 272−273.
  79. Willens, R.H. and Buehler, E. The Superconductivity of the Monocarbides of Tungsten and Molybdenum // Appl. Phys. Lett. 1965. — V. 7. -№. 1.-P. 25−26.
  80. Ю.В., Кучумова В. М., Савенко В. И. Механические характеристики приграничных слоев в твердосплавных системах с вольфрамовым покрытием // Физика и химия обработки материалов. 2002. -№ 3. — С. 45−50.
  81. Ю.И. Наноиндентирование и его возможности. М.: Машиностроение, 2009. — 312 с.
  82. Трение, износ и смазка / Под ред. А. В. Чичинадзе. М.: Машиностроение, 2003. — 576 с.
  83. Д.Н. Триботехника. М.: Машиностроение, 1985. — 423с.
  84. П.Ю. Химическая физика твердого тела. М.: Изд-во МГУ им. М. В. Ломоносова, 2006. — 272 с.
  85. В.Н. Абразивное разрушение твердых тел. М.: Наука, 1970.-247 с.
  86. М.М., Бабичев М. А. Абразивное изнашивание. М.: Наука, 1970.-249 с.
  87. LuthinJ., Linsmeier Ch. Carbon films and carbide formation on tungsten // Surf. Sci. 2000. — V. 454−456. — P. 78−82.
  88. Luthin J., Linsmeier Ch. Influence of oxygen on the carbide formation on tungsten // J. Nucl. Mater. 2001. — V. 290−293. — P. 121−125.
  89. Shimada Т., UedaY., M. Nishikawa M. Mechanism of blister formation on tungsten surface // Fusion Eng. Design. 2003. — V. 66−68. — P. 247 251.
  90. ShimadaT., Funabiki Т., Kawakami R., UedaY., NishikawaM. Carbon behavior on tungsten surface after carbonand hydrogen mixed beam irradiation // J. Nucl. Mater. 2004. — V. 329−333. — P. 747−751.
  91. UedaY., Fukumoto M., SawamuraL, Sakizono D., ShimadaT., Nishikawa M. Carbon impurity behavior on plasma facing surface of tungsten // Fusion Eng. Design. 2006. — V. 81. — P. 233−239.
  92. Tanabe Т., Ohgo Т., Wada W., Rubel M., Philipps V., von Seggern J., OhyaK., HuberA., Pospieszczyk A., SchweerB., TEXTOR Team. Material mixing on W/C twin limiter in TEXTOR-94 // Fusion Eng. Des. 2000. — V. 49−50.-P. 355−362.
  93. Hilderbrandt D., Wienhold P., Schneider W. Mixed-material coating formation on tungsten surfaces during plasma exposure in TEXTOR-94. // J. Nucl. Mater. 2001. — V. 290−293. — P. 89−93.
  94. MaierH., KriegerK., Balden M., Roth J., ASDEX Upgrade Team. Erosion and deposition in the ASDEX Upgrade tungsten divertor experiment. // J. Nucl. Mater. 1999. -V. 266−269. — P. 1003−1008.
  95. Alimov V.Kh., Komarov D.A. Deuterium retention in carbon and tungsten-carbon mixed films deposited by magnetron sputtering in D2 atmosphere // J. Nucl. Mater. 2003. — V. 313−316. — P. 599−603.
  96. YoshidaY., Taniguchi M., YokoyamaK., YamauchiY., HirohataY., Akiba M., Hino T. Deuterium retention in carbon dust and carbon-tungsten mixed dust prepared by deuterium arc discharge // J. Nucl. Mater. — 2004. — V. 329−333. — P. 790−794.
  97. KatayamaK., Kawasaki Т., ManabeY., Nagase H., Takrishi Т., Nishikawa M. Hydrogen retention in carbon-tungsten co-deposition layer formed by hydrogen RF plasma // Thin Solid Films. 2006. — V. 506−507. — P. 188−191.
  98. Alimov V.Kh., Komarov D.A., Roth J., Mayer M., Lindig S. Deuterium retention in sintered boron carbide exposed to a deuterium plasma // J. Nucl. Mater. 2006. — V. 349. — P. 282−290.
  99. AlimovV.Kh., Chernikov V.N., ZakharovA.P. Depth distribution of deuterium atoms and molecules in beryllium implanted with D ions // J. Nucl. Mater. 1997. — V. 241 -243. — P. 1047−1051.
  100. AlimovV.Kh., Mayer M., Roth J. Differential cross-section of the D (3He, p)4He nuclear reaction and depth profiling of deuterium up to large depths // Nucl. Instr. and Meth. 2005. — V. В 234. — P. 169−175.
  101. AlimovV.Kh., Roth J., Causey R.A., Komarov D.A., Linsmeier Ch., WiltnerA., KostF., Lindig S. Deuterium retention in tungsten exposed to low-energy, high-flux clean and carbon-seeded deuterium plasmas // J. Nucl. Mater. -2008.-V. 375.-1.2.-P. 192−201.
  102. Ogorodnikova O.V., Roth J., Mayer M. Deuterium retention in tungsten in dependence of the surface conditions // J. Nucl. Mater. — 2003. — V. 313−316.-P. 469−477.
  103. .С. Диффузия в металлах, M.: Металлургия, 1978.248 с.
  104. Frauenfelder R. Solution and diffusion of hydrogen in tungsten // J .Vac. Sci. Technol. 1969. -V. 6. — P. 388−397.
Заполнить форму текущей работой

Заказал и сдал!