Создание элементов квантового аналога КМОП-транзистора
С помощью комплекса методов исследования выполнены оценки степени совершенства эпитаксиальных структур ОаА8/1пСаА8 и выявлены причины образования дефектных областей. Установлена связь электрофизических параметров структур АЮаАзЯпОаАз/ОаАз с технологическими режимами роста, химическим составом и толщинами слоев. Оптимизированы технологические условия роста и получены гетероструктуры с высокимиу |2… Читать ещё >
Содержание
- ГЛАВА 1. ПРЕДПОСЫЛКИ ДЛЯ СОЗДАНИЯ КВАНТОВОГО АНАЛОГА КМОП- ТРАНЗИСТОРА
- 1. 1. Гетероструктуры на основе ОаАй
- I. 1.1. Приборы с резонансным туннелированием электронов
- 1. 1. 2. Приборы на сверхрешетках
- 1. 1. 3. Гетероструктуры с селективным легированием и двумерным электронным газом
- 1. 2. Омические контакты к гетерострукт урам с квантовыми ямами
- 1. 2. 1. Омические контакты к структурам на СаАя
- 1. 2. 2. Омические контакты к отдельным квантовым ямам
- 1. 3. Латеральный транспорт в одноямных структурах
- 1. 4. Эффекты трансформации волновой функции электронов в многоямных структурах
- 1. 5. Выводы по Главе 1
- 2. 1. Описание установки молекулярно-лучевой эпитаксии ЦНА
- 2. 2. Получение сверхвысокого вакуума
- 2. 3. Материалы для МЛЭ
- 2. 4. Подготовка подложек
- 2. 5. Эпитаксиальный рост
- 2. 5. 1. Анализ поверхности в ходе эпитаксиального роста
- 2. 5. 2. Автоматизация процесса роста
- 2. 6. Влияние условий роста на свойства гетероструктур ОаАб/АьОаАз
- 2. 7. Особенности роста гетероструктур 1ыОаА8/АьОаА
- 2. 7. 1. Выращивание образцов
- 2. 7. 2. Рентгенодифракционные исследования
- 2. 7. 3. Фотолюминесценция
- 2. 7. 4. Расчет Ее. ш и определение параметров квантовых ям
- 2. 8. Исследования рНЕМТ — структур с высокой концентрацией 2В — газа
- 2. 9. Выводы по Главе 2
- 3. 1. Омические контакты к структурам на основе ОаА
- 3. 2. Независимые омические контакты к отдельным квантовым ямам
- 3. 2. 1. Методика создания селективных омических контактов
- 3. 2. 2. Теоретическое обоснование методики
- 3. 2. 3. Технология получения экспериментальных образцов
- 3. 2. 4. Результаты
- 3. 3. Выводы по Главе 3
- 4. 1. Исследование латерального транспорта электронов в одноямных структурах с прямоугольными квантовыми ямами
- 4. 2. Транзистор с модулированной подвижностью электронов
- 4. 3. Выводы по Главе 4
Создание элементов квантового аналога КМОП-транзистора (реферат, курсовая, диплом, контрольная)
КМОП элементная база в настоящее время не удовлетворяет требованиям разработчиков аппаратуры, прежде всего по потребляемой мощности. Поэтому актуальна задача разработки новой элементной базы, обладающей более высокой экономичностью по энергопотреблению в сочетании с высоким быстродействием и высокой плотностью компоновки.
Одним из основных направлений развития высокопроизводительной вычислительной техники, средств связи и систем обработки видеоинформации является разработка приборов на новых физических принципах, которые обеспечивают меньшее энергопотребление и большую скорость обработки и преобразования сигналов. Достигнутый в настоящее время уровень технологии позволяет создавать структуры с характерными размерами толщин слоев порядка нескольких нанометров, что сравнимо с длиной волны электрона. Физические свойства таких структур определяются законами квантовой механики. Это открывает путь к использованию фундаментальных квантовомеханических эффектов для обработки и преобразования информации. Основные особенности квантовых структур обусловлены размерным квантованием энергетического спектра и интерференцией различных квантовых состояний. Цифровое кодирование информации предполагает наличие у прибора дискретных логических уровней. Различные логические уровни отвечают устойчивым состояниям физического прибора и характеризуются заданными распределениями заряда и тока. В классическом приборе такие устойчивые состояния формируются в результате диффузионно-дрейфового перераспределения носителей заряда. Дискретность состояний квантовых систем носит фундаментальный характер и внутренне присуща этим системам.
Был предложен и развивается подход, в котором носителем информации выступает амплитуда электронной волновой функции в данной области квантовой системы (максимуму амплитуды отвечает логическая «1», минимуму амплитуды — логический «О»). Приложение к структуре внешнего напряжения изменяет энергетический спектр и позволяет управлять квантовой интерференцией. Это вызывает контролируемую передислокацию электронной плотности в системе, соответствующую преобразованию информации по заданному закону.
В качестве физической основы для ре&тизации приборовс управляемой передислокацией электронной плотности предполагалось использовать структуру с набором туннельно-связанных квантовых ям. Так как время выполнения логической операции в такой структуре определяется временем туннелирования, то, теоретически, оно может быть меньше 1 псек. Указанный принцип позволяет реализовать квантовые аналоги КМОП схем, не потребляющие энергии в стационарном состоянии. Энергопотребление квантового прибора в переходном режиме также может быть существенно снижено, что создает уникальные перспективы для построения сверхбыстродействующих систем сверхвысокой степени интеграции. К началу данного исследования были разработаны теоретические основы для создания таких приборов.
Для реализации квантового аналога КМОПтранзистора необходимы высококачественные гетероструктуры с высокими электрофизическим параметрами, технология формирования независимых омических контактов к отдельным квантовым ямам для снятия информации о состоянии квантовой системы (существующие на сегодня технологии сложны и не годятся для производства интегральных схем), а также информация о механизмах латерального транспорта в структурах с квантовыми ямами. Это обусловливает актуальность представленной работы.
Целью данной работы являлось создание элементов квантового аналога КМОПтранзистора, а именно: создание высококачественных гетероструктур с квантовыми ямами на основе соединений 1пОаА8/АЮаА8- изучение латерального транспорта и эффектов взаимодействия квантовых ям в многоямных структурахразработка технологии формирования омических контактов к отдельным квантовым ямам.
В связи с вышесказанным, в настоящей работе ставились задачи:
1. Создание высококачественных гетероструктур с квантовыми ямами на основе соединений Са (1п)А8/АЮаА8 методом молекулярно-лучевой эпитаксии на установке «ЦНА-18» и изучение влияния технологических условий роста на электрофизические (концентрация и подвижность двумерного газа электронов) и фотолюминесцентные (положение, интенсивность и ширина линий) свойства полученных гетероструктур.
2. Разработка технологии формирования омических контактов к отдельным квантовым ямам в двухъямных структурах,.
3. Исследование латерального транспорта и эффектов взаимодействия электронов в квантовых ямах в структурах с двумя прямоугольными туннельно-связанными квантовыми ямами.
Научная новизна работы заключается в следующем:
1. Впервые численно, с помощью уравнения Шредингера в одноэлектронном приближении в рамках метода огибающей волновой функции рассчитаны энергии переходов с первого электронного уровня на уровень тяжелых дырок в структурах ОаАзЛпСаАз с прямоугольными квантовыми ямами с учетом областей сегрегации;
2. Проведены комплексные исследования влияния условий роста и параметров структур АЮаАяЛпОаАз/ОаЛх на их электрофизические характеристики и вид спектров фотолюминесценции и впервые показано, что вид спектров определяется соотношением интегралов перекрытия волновых функций электронов первой и второй подзон с волновой функцией тяжелых дырок.
3. Впервые предложена и реализована методика создания селективных омических контактов к системе двух независимых или туннельно-связанных квантовых ям, основанная на использовании различающихся по составу квантовых ям;
4. Впервые предложена и реализована структура транзистора с модулированной подвижностью с рекордной глубиной модуляции, равной 30 при температуре 77 К.
Практическая значимость работы определяется тем, что:
1. С помощью комплекса методов исследования выполнены оценки степени совершенства эпитаксиальных структур ОаА8/1пСаА8 и выявлены причины образования дефектных областей. Установлена связь электрофизических параметров структур АЮаАзЯпОаАз/ОаАз с технологическими режимами роста, химическим составом и толщинами слоев. Оптимизированы технологические условия роста и получены гетероструктуры с высокимиу |2 параметрами (концентрация двумерного газа электронов — 1.5' 10 -ь2.8−10 см" «, подвижность при 77 К — 7000-^21 100 см» /В-с). На основе полученных структур изготовлены транзисторы с длиной канала 1 мкм и крутизной вольт-амперной характеристики 300 мСм/мм;
2. Предложена и реализована методика создания селективных омических контактов к системе двух независимых или туннельно-связанных квантовых ям, основанная на использовании различающихся по составу квантовых ям. Предложенная методика открывает новые возможности не только для исследования свойств отдельных квантовых ям и их взаимодействия, но и для создания приборов на основе новых физических принципов (например, туннельно-резонансного транзистора).
3. Оптимизирована структура невплавных омических контактов к структурам на СаАв, основанная на применении приконтактного варизонного слоя 1пхСа^хА8. На основе данной технологии изготовлены базовые матричные кристаллы (БМК), содержащие 40 тыс. транзисторов с длиной затвора 1 мкм в кристалле размером 7.3×7.3 мм, позволяющие сформировать более 10 тыс. вентилей;
4. На основе структуры с двумя асимметричными туннельно-связанными квантовыми ямами реализован макет транзистора с модулированной подвижностью с глубиной модуляции, равной 30 при температуре 77 К. Модуляция подвижности осуществляется за счет делокализации волновой функции электронов из широкой квантовой ямы с высокой подвижностью при приложении внешнего электрического поля.
На защиту выносятся следующие положения:
1. Впервые, с помощью решения уравнения Шредингера в одноэлектронном приближении в рамках метода огибающей волновой функции, рассчитаны энергии переходов с первого электронного уровня на первый уровень тяжелых дырок в структурах ОаАвЛпОаАз с учетом областей обеднения атомами индия.
2. Вид спектров фотолюминесценции структур АЮаАзЛпОаАз/ОаАв с.
12 1 ^ ^ концентрацией двумерного газа электронов 1.5'10 — 2.8' 10 «см» -определяется соотношением интегралов перекрытия волновых функций электронов первой и второй подзон с волновой функцией тяжелых дырок. Интегралы перекрытия определяются встроенным электрическим полем, обусловленным наличием двумерного газа электронов.
3. Впервые предложена и реализована методика создания селективных омических контактов к системе двух независимых или туннельно-связанных квантовых ям изотипной проводимости, основанная на использовании различающихся по составу квантовых ям.
Считаю своим приятным долгом поблагодарить соавторов по публикациям и коллег по научной работе за всестороннюю помощь и поддержку.
Выражаю глубокую благодарность Садофьеву Юрию Григорьевичу (ФИ РАН) и Евстигнееву C.B. (МИЭТ) за неоценимую помощь при подготовке работы.
Хочу выразить благодарность Колтыженкову В. М., Бирюлину П. В., Цибизову А. Г (НОЦ «Квантовые приборы и нанотехнологии») за помощь при проведении компьютерного моделирования и Шмелеву С. С. (НОЦ «Квантовые приборы и нанотехнологии») за подготовку образцов.
Хочу поблагодарить Капаева В. В. (ФИ РАН) за предоставленные программы компьютерного моделирования и Трофимова В. Т. (ФИ РАН) за измерение вольт-амперных характеристик образцов.
Весьма благодарен Хабарову Ю. В. (ИРЭ РАН) за измерение спектров фотолюминесценции, а также Имамову P.M., Ломову A.A. и Чуеву М. А. (Институт кристаллографии РАН) за измерение и обработку спектров двухкристалльной рентгеновской дифрактометрии.
4.3. Выводы по Главе 4.
1. На основе структуры с двумя асимметричными туннельно-связанными квантовыми ямами реализован транзистор, в котором изменение проводимости определяется модуляцией подвижности. Впервые получена глубина модуляции подвижности более 30 при температуре 77 К. Модуляция подвижности осуществляется за счет делокализации волновой функции электронов из широкой квантовой ямы с высокой подвижностью при приложении внешнего электрического поля. Структура эффективно управляется одним затвором.
Заключение
.
Основные положения и выводы:
1. Профиль распределения атомов индия в структурах с ОаЛзЛпОаАз квантовыми ямами сильно зависит от условий роста: толщина области обеднения атомами индия, обусловленной сегрегацией, возрастает с увеличением температуры роста и увеличением потока атомов индия.
2. Впервые, с помощью решения уравнения Шредингера в одноэлектронном приближении в рамках метода огибающей волновой функции, рассчитаны энергии переходов с первого электронного уровня на первый уровень тяжелых дырок в структурах ОаАзЛпОаАБ с учетом областей обеднения атомами индия.
3. Вид спектров фотолюминесценции структур АЮаАзЛпОаАз/СаАз с концентрацией двумерного газа электронов 1.5 1012 — 2.8 1012 см" 2 определяется соотношением интегралов перекрытия волновых функций электронов первой и второй подзон с волновой функцией тяжелых дырок. Интегралы перекрытия определяются встроенным электрическим полем, обусловленным наличием двумерного газа электронов.
4. Впервые предложена и реализована методика создания селективных омических контактов к системе двух независимых или туннельно-связанных квантовых ям изотипной проводимости, основанная на использовании различающихся по составу квантовых ям. Контакты к нижней квантовой яме с меньшей шириной запрещенной зоны формируются путем напыления алюминия на боковые поверхности меза-структуры.
Публикации по теме диссертации.
1. Игнатьев A.C., Копылов В. Б., Шмелев С. С., Шипицин Д. С., Евстигнеев C.B. Локальные контакты и латеральный перенос носителей в системах с асимметричными квантовыми ямами. Тезисы доклада на Всероссийской научно-технической конференции «Электроника и информатика». Москва,.
1995 г., стр. 13−14.
2. Бирюлин П. И.,. Волчков Н. А,. Евстигнеев С. В, Трофимов В. Т., Шипицин Д. С. Полевой транзистор с модулированной подвижностью на основе MQW-структуры AlGaAs/GaAs. Тезисы доклада на межвузовской научно-технической конференции «Микро-электроника и информатика». Москва,.
1996 г., стр. 8.
3. Евстигнеев C.B., Шипицин Д. С. Формирование независимых омических контактов к двухъямной гетероструктуре с GaAs и InxGajxAs квантовыми ямами. Тезисы доклада на межвузовской научно-технической конференции «Микроэлектроника и информатика». Москва, 1997 г., стр. 31.
4. Евстигнеев C.B., Шипицин Д. С. Несплавные омические контакты к структуре рНЕМТ-транзистора. Тезисы доклада на межвузовской научно-технической конференции «Микроэлектроника и информатика». Москва, 1998 г., стр. 28.
5. Евстигнеев C.B., Садофьев Ю. Г., Шипицин Д. С., Шмелев С. С. Невплавные алюминиевые омические контакты к структуре рНЕМТ-транзистора. Известия вузов. ЭЛЕКТРОНИКА. 1998. № 4, стр. 21−24.
6. Евстигнеев C.B., Копаев Ю. В., Садофьев Ю. Г., Шипицин Д. С., Шмелев С. С. Несплавной селективный омический контакт к системе параллельных.
126 квантовых ям изотипной проводимости. Микроэлектроника. 1998. Том 27, № 4, стр. 317−320.
7. Евстигнеев C.B., Шипицин Д. С. Новые подходы к созданию омических контактов к гетероструктурам с квантовыми ямами. Физическое образование в ВУЗах. 1999. Том 5, № 1, стр. 85−91.
8. Евстигнеев C.B., Имамов P.M., Ломов A.A., Садофьев Ю. Г., Хабаров Ю. В., Шипицин Д. С. Исследование InxGai. xAs/GaAs квантовых ям, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Тезисы доклада на Российской конференции «Полупроводники-99». Новосибирск, 1999 г.
Список литературы
- Reed M. A. et all. Appl. Phys. Lett., 1989, v.54, p. 1034.
- Chang L.L. et all. J. Vacuum Sci. Technol., 1973, v.10, p. 11.
- Petroff P.M. et all. Appl. Phys. Lett., 1982, v.41, p. 635.
- Stiles P.J. Surf. Sci., 1978, v. 73, p. 252.
- Hirakawa K. et all. Phys. Rev. Lett., 1985, v. 54, p. 1279.
- Margaritondo G. Surf. Sci., 1983, v. 132, p. 468.
- Duke C.B. J. Vacuum Sci. Technol. A, 1984, v.2, p. 139.
- Sakamoto T. et all. Superlattices and Microstructures, 1985, v. 1, p. 347.
- D. S. Tsui et al. Appl. Phys. Lett. 1983. N2, V42.
- Diette F., Langrez D., Codron J.L., Delos E., Theron D., Salmer G. / Electron Lett. 1996, V. 32, p. 848
- Y. Shiraishi, T. Yoshida et al. International symposium on GaAs and related compounds, Karuizava, Japan, 1992, 324−327.
- T. Nittono, H. Ito, O. Nakajima, T. Ishibashi. Jpn. J. Appl. Phys. 1988. Vol. 27, 1718−1723.
- S. Kuroda, N. Harada, T. Katakami, T. Mimura, M. Abe. IEEE Trans. Electron Devices 1989. Vol. ED-36, 2196−2200.
- A. Lahav, F. Ren, R.F. Kopf. Appl. Phys. Lett. 1989. Vol. 54, 1693−1696.
- C. K. Peng, G. Ji, N.S. Kumar, H. Morkoc. Appl. Phys. Lett. 1988. Vol. 53, 900−903.
- N. S. Kumar, J.-I. Chyi, C. K. Peng, H. Appl. Phys. Lett. 1989. Vol. 55, 775 778.
- K. Ploog, H. Kunzel, J. Knecht et.al. Appl. Phys. Lett. 1981. Vol. 38. P. 870.
- J.P. Einsenstein, L.N.Preiffer, K.W. West. Appl. Phys. Lett. 1990. Vol. 57. P. 2324.
- N.K.Patel, M.P. Grimshaw, J.H. Burroughes et. al. Appl. Phys. Lett. 1995. Vol. 66. P. 848.
- K.M. Brown, E.H. Linfield, D.A. Ritche et.fl.Appl. Phys. Lett. 1994. Vol. 64. P. 1827.
- N.K. Pattel, E.H. Linfield, K.M. Brown et. al. Appl. Phys. Lett. 1994. Vol. 64. P. 3018.
- I.S.Millard, N.K. Patel, E.N. Linfield et. al. Semicond. Sci. Technol. 1996. Vol. 11. P. 483.
- H. Rubel, E.H. Linfield, D.A. Ritche et. al. Semicond.Sci. Technol. 1995. Vol. 10. P. 1229.
- H. Sohn, C. Artmor, M. Pieree. Appl. Phys. 1995. Vol. 77. P. 5.
- S. Malzer, M. KneisslJP. Kiesel et. al. J. Vac. Sci. technol. 1996. Vol. B14. P. 2175.
- K. Lee et al. J. Appl. Phys. 1983. N11, V54.
- L. J. Van der Pauw. Phylips technical review. 1958/1959, N8, V20.
- Pam6a 3. H. OTR 1986. Bwn.6. T.20.
- Карасик В. Р. Физика и техника сильных магнитных полей. М. Наука, 1964.
- К. Y. Cheng. Appl. Phys. Lett. 1982. V40.
- К. Ploog et al. J. Appl. Phys. 1977. N13, V54.
- Андо Т., Фаулер JI., Стерн Ф. Электронные свойства двумерных систем: Пер. с англ. М.: Мир, 1985.
- Н. Sakaki et al. Appl. Phys. Lett. 1987. N23, V51.
- Кукушкин И.В., Мешков С. В., Тимофеев В. Б. УФН. 1988. Вып.2. Т. 155.
- Т. Wang et al. J. Appl. Phys. 1993. N1, V74.
- H.Sakaki. Japanese J.Appl.Phys., v.21 n.6, p. L381 (1982).
- K.Hirakawa, H. Sakaki, J.Yoshino. Phys.Rev.Lett., v.54, n.12, p.1279−1282 (1985).
- A.Kurobe, J.E.F.Frost, D.A.Ritchie, G.A.C.Jones, M.Pepper. Appl.Phys.Lett., v.60, n.29, p.3268−3270 (1992).
- P.M.Owen, M.Pepper. Semicond.Sci.Technol., v.8, p.123−126 (1993).
- A.Kurobe, I.M.Castleton, E.H.Linfield, M.P.Grimshaw, K.M.Brown, D.A.Ritchie, G.A.C.Jones, M.Pepper. Semicond.Sci.Technol., v.9, p. 1744−1747 (1994).
- A.Palevski, F. Beltram, F. Capasso, L. Pfeiffer, K.W.West. Phys.Rev.Lett., v.65, n.15, p.1929−1932 (1990).
- Y.Ohno, M. Tsuchiya, H.Sakaki. Appl.Phys.Lett., v.62, n.18, p.1952−1954 (1993).
- J.P. Einsenstein, L.N.Preiffer, K.W. West. Appl. Phys. Lett. 1991. Vol. 58. P. 1497.
- J.A. Simmons et all. J. Appl. Phys. 1998. — Vol. 84. — P. 5626.
- A.A. Gorbatsevich, V.V. Kapaev, Yu.V. Kopaev, V.Ya. Kremlev. Physics of Low-Dimensional Structures, N4/5, p.57, 1994.
- A.A. Горбацевич, B.B. Капаев, Ю. В. Копаев, В. Я. Кремлев. Микроэлектроника, 23, 17 (1994).
- A.A. Горбацевич, B.B. Капаев, Ю. В. Копаев, В. Я. Кремлев. Электронная промышленность, N 4−5, с.28−31, 1995.
- А.А. Горбацевич, В. В. Капаев, Ю. В. Копаев. ЖЭТФ, 107, 1320 (1995).
- Kircher P.D. at all. J. Vac. Sci. Technol., 1981, v. 19, p. 604.
- Cho A.Y. J. Appl. Phys., 1975, v. 46, p. 1722.
- Ilegems M. J. Appl. Phys., 1977, v. 48, p. 1278.
- Foxon C.T. at all. J. Ciyst. Growth, 1978, v. 44, p. 75.
- S. Kuroda, N. Harada, T. Katakami, T. Mimura, M. Abe. IEEE Trans. Electron Devices. 1989. V. ED-36, p. 2196.
- Wojtowicz M., Pascua D., Han A.-C., Block T.R., Streit D.C. J. Cryst. Growth. 1997. V. 175−176, p. 930.
- Andersson T.G., Chen Z.G., Kulakovskii V.D., Uddin A., Vallin J.T. Phys. Rev. В. V. 37, p. 4032.
- Афанасьев A.M., Чуев M.A., Имамов P.M., Ломов A.A. и др. Кристаллография. 1997. Том 42. № 3, с. 514.
- Kuphal E., Pocker A., Eisenbach A. J. Appl. Phys. 1993. V. 73, p. 4599.
- Goetz K.H., Bimberg D., Jurgensen H., Solders J., Solomonov A.V., Glinski G.F., Razeghi M. J. Appl. Phys. 1983. V. 54, p. 4543.
- Wang T.Y., Stringfellow G.B. J. Appl. Phys. 1994. V. 67, p. 344.
- Bradley I.V., Gillin W.P., Homewood K.P., Webb R.P. J. Appl. Phys. 1993. V. 73, p. 1686.
- Haines M.J.L.S., Ahmed N., Adams S.J.A., Mitchell K., Agool I.R., Pidgeon C.R., Cavenett B.C., O’Reilly E.P., Ghiti A., Emeny M.T. Phys. Rev. B. 1991. V.43, p. 11 944.
- Moore K.J., Duggan G" Woodbridge K., Roberts C. Phys. Rev. B. 1990. V.41, p. 1090.
- Dodabalapur et al. J. Electron. Mat., 1990, 19, 265.
- Brugger et al. Appl. Phys. Lett., 1991, 59, 2739.
- Brierley et al. Appl. Phys. Lett., 1991, 59, 3306.
- Brierley S.K. J. Appl. Phys. 1993. V. 74, p. 2760.
- Schulman J.N., Waldner M. J. Appl. Phys. 1988. V. 63. P.2859.
- Simmons J.A., Blount M.A., Moon J.S., Lyo S.K., Baca W. E., Wendt J.R., Reno J.L., Hafiche M.J. J. Appl. Phys. 1998. V. 84. P.5626.
- Kawamura Y., Wakita K., Mikami O. Appl. Phys. Lett., 1988, V. 53. P. 14 621 464.
- Губанков B.H., Лисицкий М. П., Шмелев C.C. Письма в ЖЭТФ. 1998. т. 24. С. 56.132
- Rhoderick E.H. Transport properties in Schottky diodes, in Inst. Phys. Conf. Ser. No. 22. Ed. by Pepper K.M. institute of Physics, Manchester, England, 1974. P. 3.
- Kajiyama K., Mizushima Y., Sakata S. Appl. Phys. Lett. 1973. V. 23. P. 458.
- Sakaki, T. Noda, K. Hirakawa, M. Tanaka, T. Matsusue. Appl. Phys. Lett. Vol. 51, Num. 23, 1934−1936 (1987).