Дипломы, курсовые, рефераты, контрольные...
Срочная помощь в учёбе

Разработка и исследование методов и средств повышения технического уровня элементной базы вакуумных систем и эксплуатационных характеристик промышленного оборудования тонкопленочных технологий

Диссертация: Разработка и исследование методов и средств повышения технического уровня элементной базы вакуумных систем и эксплуатационных характеристик промышленного оборудования тонкопленочных технологий
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Выполнены расчетно-теоретические и технологические работы по модернизации конструкции диффузионных насосов серии НД в направлении повышения эффективности конденсации паров рабочей жидкости на внутренней стенке корпуса, повышению технологичности отдельных элементов, снижению материалоемкости и улучшению дизайна при одновременном снижении себестоимости, что в совокупности существенно повысило… Читать ещё >

Содержание

  • Глава 1. Анализ современного состояния и тенденции развития элементной базы вакуумных систем оборудования тонкопленочных технологий
    • 1. 1. Элементная база современного вакуумного оборудования тонкопленочных технологий
    • 1. 2. Анализ методов формирования вакуумных условий в оборудовании тонкопленочных технологий
    • 1. 3. Состояние вопросов теории и практики создания элементной базы вакуумных систем оборудования тонкопленочных технологий
      • 1. 3. 1. Вакуумные насосы и агрегаты на базе диффузионных насосов
      • 1. 3. 2. Турбомолекулярные и криогенные насосы
      • 1. 3. 3. Механические вакуумные насосы
    • 1. 4. Запорно-регулирующая вакуумная аппаратура
      • 1. 4. 1. Вакуумные клапаны и клапаны-натекатели
      • 1. 4. 2. Вакуумные затворы. л
      • 1. 4. 3. Уровень разработок вакуумной запорно-регулирующей аппаратуры зарубежными фирмами
  • Выводы к Главе 1
  • Глава 2. Теоретические вопросы создания и совершенствования элементной базы вакуумных систем оборудования тонкопленочных технологий
    • 2. 1. Методы оценки конкурентоспособности элементной базы вакуумных систем
    • 2. 2. Пути совершенствования элементной базы вакуумных систем
      • 2. 2. 1. Основные направления работ по созданию новых поколений вакуумной запорно-регулирующей аппаратуры и анализ новых технических решений
      • 2. 2. 2. Развитие средств получения вакуума
    • 2. 3. Теоретические основы создания протяженных систем транспортирования хладагентов к элементам вакуумных систем крупногабаритного оборудования тонкоплёночных технологий
      • 2. 3. 1. Техника теплоизоляции при низких температурах
      • 2. 3. 2. Математическая модель эффективной экранно-вакуумной изоляции от внешнего теплопритока
  • Выводы к Главе 2
  • Глава 3. Современное состояние технологий и анализ элементов теории формирования тонкопленочных покрытий в вакууме
    • 3. 1. Общие положения
    • 3. 2. Физические основы процесса осаждения покрытий методом термического испарения в вакууме
    • 3. 3. Физические закономерности процессов ионно-плазменного и магнетронного распыления
    • 3. 4. Анализ процесса вакуумного плазменно-дугового осаждения покрытий
    • 3. 5. Исследование влияния положительного пространственного заряда ионного пучка на рабочие характеристики магнетронных источ
  • Выводы к Главе 3
  • Глава 4. Опыт эксплуатации, исследование и пути модернизации оборудования тонкопленочных технологий в ОАО «Вакууммаш»
    • 4. 1. Состояние вопроса
    • 4. 2. Характеристика крупногабаритного оборудования тонкопленочных технологий
      • 4. 2. 1. Установка осаждения покрытий методом термического осаждения в вакууме
      • 4. 2. 2. Установка магнетронного нанесения тонких пленок УВН-4МС
      • 4. 2. 3. Установка электродугового (плазменно-дугового) нанесения покрытий в вакууме УВН-4ЭД
    • 4. 3. Исследование структуры поверхности тонкопленочных покрытий методом сканирующей зондовой микроскопии
      • 4. 3. 1. Цель и задачи исследования
      • 4. 3. 2. Возможности метода и подготовка образцов
      • 4. 3. 3. Исследование качества покрытий, полученных на установках УВН-4М и УВН-4ЭД
    • 4. 4. Пути повышения эффективности функционирования газодинамической системы в оборудовании осаждения плёнок с магнетрон-ным источником
  • Выводы к Главе 4

Разработка и исследование методов и средств повышения технического уровня элементной базы вакуумных систем и эксплуатационных характеристик промышленного оборудования тонкопленочных технологий (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Среди большого разнообразия современных высоких технологий широкое применение находят процессы получения тонкоплёночных покрытий в вакууме, основанные на термическом испарении, ионно-плазменном, магне-тронном и плазменно-дуговом осаждении вещества.

Созданию теоретических основ и развитию тонкоплёночных технологий и оборудования в России посвятили свои работы известные учёные. Ми-найчев В.Е., Маишев Ю. П., Ковалёв J1.K., Ковальский Г. А., Валеев A.C., Ивановский Г. Ф., Данилин Б. С., Гринченко В. Т. и др. 1−10].

Изначально тонкоплёночные технологии использовались в электронной, радиотехнической и смежных отраслях промышленности, в которых находили применения изделия, использовавшие в качестве основных функциональных элементов тонкие плёнки материалов с различными физико-химическими свойствами.

Особая роль в становлении и развитии тонкоплёночных технологий принадлежит микроэлектронике. В то же время, тонкие плёнки находят широкое применение в других отраслях промышленности для антикоррозионных, оптических, декоративных, отражающих и иных покрытий.

Термическое испарение в вакууме сравнительно недорогой и наиболее распространенный метод получения тонких плёнок. Простота и доступность этого метода обеспечили его широкое использование в промышленном производстве, особенно в тех случаях, когда температура испаряемого вещества сравнительно невысока, не более 1800 К, и используются чистые металлы.

Для получения тонких плёнок материалов сложного состава во избежание фракционирования и диссоциации сложных композиций используется ионно-лучевое распыление, получившее, к настоящему времени, широкое распространение в отечественной и мировой практике [2−4].

Современное промышленное оборудование и технологические методы ионно-плазменного и магнетронного нанесения покрытий наиболее эффективны в тех случаях, когда к изделиям предъявляются повышенные требования по чистоте поверхности, прецизионности, адгезии и воспроизводимости состава получаемых плёнок.

Следует отметить также реализованную в оборудовании тонкоплёночных технологий предварительную подготовку поверхности методом ионной очистки в едином вакуумном цикле, что существенно улучшает качество и прочность тонкоплёночных покрытий и повышает выход годных изделий.

Несмотря на многолетний опыт применения промышленных тонкоплёночных технологий, вопросы совершенствования технологического оборудования с учётом многообразия материалов, режимов выполнения процесса нанесения, формы и размеров изделий и т. д. выдвигает задачу создания унифицированной и легко обновляемой элементной базы оборудования как для создания необходимых вакуумных и газодинамических условий и выполнения основных операций процесса, так и обеспечения автоматизированного контроля управления процессом в течении рабочего цикла, что в совокупности позволяет осуществить проблему управления качеством выпускаемой продукции и представляется весьма актуальной задачей.

Так как ОАО «Вакууммаш» является единственным в России самодостаточным предприятием, способным реализовывать выдвигаемые повседневно задачи развития высоких вакуумных тонкоплёночных технологий и оборудования, постановка этих работ на предприятии является наиболее целесообразной.

В соответствии с этим, цель диссертационной работы состоит в выявлении резервов дальнейшего совершенствования крупногабаритного тонкоплёночного оборудования и его элементной базы на основе проведения комплекса теоретических и экспериментальных исследований и решении ряда инженерных и организационно-технических задач. В числе наиболее важных работ в этом направлении являются следующие, выносимые на защиту вопросы:

• Анализ современного состояния элементной базы вакуумных систем оборудования тонкоплёночных технологий и выполнение комплекса работ по созданию новых моделей вакуумных насосов и вакуумной запорно-регулирующей арматуры с улучшенными характеристиками;

• Исследование газодинамических условий в технологических камерах оборудования для осаждения покрытий на большие площади с использованием магнетронных распылительных систем с целью создания равных условий ионизации рабочего вещества в разрядных камерах протяжённых источников;

• Исследование влияния положительного пространственного заряда ионного пучка на рабочие характеристики магнетронных источников и разработка рекомендаций по выбору их оптимальных характеристик при проектировании и эксплуатации;

• Проведение комплекса экспериментальных исследований распределения равномерности толщины и структуры покрытий, полученных методами магнетронного и вакуумно-дугового нанесения с целью выбора оптимальных энергетических и газодинамических режимов процесса;

• Выполнение ряда теоретических и прикладных задач по совершенствованию методов автоматизации крупногабаритного оборудования со сложными вакуумными системами на базе диффузионных высоковакуумных насосов, в том числе создание физико-математической модели экранно-вакуумной изоляции для питания хладагентом азотных ловушек в протяжённых и разветвлённых системах.

Содержание диссертации изложено в 4х главах:

Первая глава посвящена анализу назначения и соответствия современному уровню элементной базы оборудования тонкоплёночных технологий, обеспечивающей вакуумные условия процессов осаждения плёнок, его контроль и диагностику, положение в пространстве изделий относительно источника, формирование газовой среды, систему охлаждения элементов оборудования и вакуумных систем, управление процессами и др.

Рассматриваются критерии и методы формирования вакуумных условий при осаждении плёнок методом термического осаждения в вакууме, маг-нетронного распыления и вакуумного плазменно-дугового осаждения, а также анализируется состояние вопросов теории и практики создания элементной базы вакуумных систем.

Особое внимание уделено анализу средств получения вакуума, в том числе: диффузионных, турбомолекулярных и криогенных насосов, каждый из которых удовлетворяет требованию постоянства быстроты действия в широком диапазоне давлений, что является важным критерием для тонкоплёночного оборудования.

В то же время, по совокупности других эксплуатационных, конструктивных и экономических факторов показано преимущество диффузионных насосов для рассматриваемой области применения.

Наряду с анализом средств откачки уделено внимание состоянию отечественной вакуумной запорно-регулирующей аппаратуры, анализируется уровень разработок ведущих зарубежных фирм.

Во второй главе излагаются вопросы создания и совершенствования элементной базы вакуумных систем оборудования тонкоплёночных технологий.

В этой связи предложена методика оценки конкурентоспособности элементной базы вакуумных систем, сформулированы требования к созданию новых поколений запорно-регулирующей аппаратуры, рассмотрены тенденции улучшения основных конструктивных и эксплуатационных параметров.

Рассмотрены пути совершенствования диффузионных насосов серии НД, в том числе разработка новых методов улучшения откачных характеристик за счёт повышения эффективности конденсации паров рабочих жидкостей.

Предложен метод, физическая и математическая модели, а также выполнены исследования экранно-вакуумной изоляции для централизованной подачи хладагентов к источникам потребления — ловушкам и криогенным вакуумным насосам, перспектива применения которых для этого класса оборудования, например в микроэлектронике и нанотехнологиях, не вызывает сомнения.

Проведён анализ компьютерной обработки полученных расчётных зависимостей по определению, в соответствии с заданными условиями, количества экранов, необходимых для надёжной тепловой изоляции хладагентов.

Современное состояние тонкоплёночных технологий и анализ элементов теории формирования покрытий в вакууме рассматривается в третьей главе.

Подводятся итоги развития этого направления. Излагаются кратко физические основы и особенности процессов термического испарения, ионно-плазменного, магнетронного и вакуумного плазменно-дугового осаждения плёнок.

Анализируются устройства испарителей, дуговых и магнетронных источников, рассматриваются элементы теории.

Приводится теоретическое исследование и результаты компьютерной обработки теории, устанавливающей влияние положительного пространственного заряда ионного пучка, в зависимости от ряда эксплуатационных и конструктивных параметров, на рабочие характеристики магнетронных источников, что позволило не только уточнить физическую модель разряда в случае скрещенных электрических и магнитных полей, но и установить условия, при которых это влияние необходимо учитывать.

Четвёртая глава посвящается анализу промышленного оборудования тонкоплёночных технологий, опыту его эксплуатации и прецизионному исследованию в ходе промышленного эксперимента качества покрытий в вакууме плазменно-дуговым и магнетронным распылением. Исследования про9 водились с использованием методов рентгеновской рефлектометрии и сканирующей зондовой микроскопии.

Сформулированы рекомендации по модернизации функциональных устройств и систем оборудования с целью улучшения его эксплуатационных характеристик.

В заключении диссертации сформулированы основные результаты работы.

Диссертация изложена на 185 страницах машинописного текста, содержит 85 рисунков, 29 таблиц и список литературы из 139 наименований.

Выводы к главе 4.

На основе обобщения опыта эксплуатации крупногабаритного оборудования тонкоплёночных технологий, выпускаемого в ОАО «Вакууммаш», сформулированы его конструктивные особенности и эксплутационные требования. По каждому виду оборудования определены требования по модернизации.

Выполнен комплекс исследований структуры и морфологии покрытий, полученных методом магнетронного и вакуумно-плазменного напыления.

Исследования проводились с использованием методов сканирующей зондовой микроскопии и рентгеновской рефлектометрии.

В результате исследований была получена оценка качества покрытия по структуре и рельефу поверхности.

Одновременно предложено качество покрытия рассматривать как диагностическую информацию для оценки оптимальных режимов работы оборудования.

Для повышения равномерности покрытий по толщине и структуре, полученных на оборудовании магнетронного распыления УВН-4М, разработаны новые технические решения, обеспечивающие равные условия ионизации в разрядных камерах протяженного магнетронного источника.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

На основе обобщения опыта создания и эксплуатации промышленного оборудования тонкопленочных технологий с использованием методов термического испарения в вакууме, магнетронного распыления и вакуумного плазменно-дугового осаждения покрытий в работе выполнен комплекс теоретических и экспериментальных исследований, решены расчетно-теоретические, проектные и технологические задачи, которые легли в основу разработок новых и модернизации эксплуатируемых функциональных устройств и элементов вакуумных систем оборудования для формирования тонких пленок различного назначения.

В тоге выполненного комплекса работ получены следующие результаты.

1. На основе проведенного сравнительного анализа и оценки эксплуатационных характеристик элементной базы вакуумных систем оборудования тонкопленочных технологий, используемых в отечественной и мировой практике, сформулированы требования по созданию элементной базы вакуумных систем нового поколения, предложена классификация и рассмотрены тенденции ее дальнейшего развития.

2. Разработана и многократно проверена практикой международного сотрудничества методика дифференцированной оценки конкурентоспособности элементной базы вакуумных систем по установленным критериям и приоритетным для заказчика параметрам.

3. Впервые теоретически исследовано влияние положительного пространственного заряда на распределение потенциала в разрядной области магнетронной распылительной системы (MPC). Решение задачи показало, что в достаточно широкой области значений характерного параметра, определяющего распределение потенциала и зависящего от индукции магнитного поля, анодного напряжения, концентрации рабочего газа, межэлектродного расстояния и других параметров следует при создании магнетронных источников учитывать влияние положительного заряда.

4. С целью совершенствования технологических характеристик оборудования для осаждения «чистых» тонких пленок в результате улучшения параметров остаточной газовой среды в рабочих камерах, создаваемой высоковакуумными диффузионными насосами с эффективными азотными ловушками, разработана физико-математическая модель и программное обеспечение для выбора оптимальной системы многослойной экранно-вакуумной теплоизоляции каналов, транспортирования гибкого хладагента от внешнего теплопритока в широком диапазоне эксплуатационных требований.

5. Выполнен комплекс экспериментально-диагностических исследований с использованием метода сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ) и рентгеновской рефлектометрии, позволившие не только с высокой степенью точности оценить качество полученных на оборудовании покрытий, но и одновременно получить информацию об оптимальности выбранных режимов их нанесения и функционирования систем оборудования, ответственных за выполнение технологического процесса. Так, в результате исследований покрытий из Т1 на оборудовании магнетронного распыления УВН-4М установлено, что в условиях локальной подачи рабочего газа при одновременной откачке камеры в процессе взаимодействия потоков откачиваемого газа и газонапускной системы не обеспечиваются равные условия ионизации в разрядных камерах протяженного магнетронного источника, что вызывает неравномерность толщины более чем на 50% и структуры покрытия в пределе 2030% по мере удаления поверхности подложки от источника подачи рабочего газа (Аг).

Оптимальность режимов процесса получения прочных покрытий А1 вакуумным плазменно-дуговым осаждением на установке УВН-4ЭД, подтверждена качеством структуры покрытия, в котором атомарной капельной составляющей продуктов эрозии дугового испарителя принадлежит ~50% исследуемой поверхности, что с запасом обеспечивает высокую адгезионную прочность при максимальной высоте микронеровностей 240 нм, разброс толщины покрытия в пределах длины подложки, расположенного вдоль ис.

173 парителя составил всего 6−8%, что находится в пределах установленной нормы.

6. По результатам выполненных исследований сформулированы рекомендации и предложены новые технические решения по обеспечению равных условий ионизации в разрядных камерах магнетронного источника установки УВН-4М.

7. Выполнены расчетно-теоретические и технологические работы по модернизации конструкции диффузионных насосов серии НД в направлении повышения эффективности конденсации паров рабочей жидкости на внутренней стенке корпуса, повышению технологичности отдельных элементов, снижению материалоемкости и улучшению дизайна при одновременном снижении себестоимости, что в совокупности существенно повысило их эксплуатационные характеристики и конкурентоспособность на отечественном и мировом рынках не менее чем на 12−15%.

8. Предложена и теоретически обоснована принципиально новая автономная система циркуляционного охлаждения корпуса диффузионных насосов по замкнутому циклу, которая позволяет поддерживать в процессе работы насоса стабильную температуру в водяной рубашке на уровне 15−20°С и полностью исключить использование магистральной охлаждающей воды.

Показать весь текст

Список литературы

  1. В.Е. Вакуумное оборудование для нанесения пленок. — М. Машиностроение, 1978 г., 58 с.
  2. В.Е. и др. Магнетронные распылительные устройства. Обзор по электронной технике. — М. ЦНИИ «Электроника», вып. 8, 1979 г., 56 с.
  3. В.Е. Определение количества распыляемого материала в маг-нетронном распылительном устройстве. «Электронная техника», серия Микроэлектроника, 1981, вып. 3.
  4. Ю.П. Источники ионов и ионно-лучевое оборудование для нанесения и травления материалов / ж. «Вакуумная техника и технология». Т II. № 4, 1992, с. 53−58.
  5. JI.K. Расчет конструкций камер напылительных установок методом математического моделирования. Электронная техника, серия 10, 1975, № 1.42−53 с.
  6. JI.K. Вакуумное оборудование для производства тонкопленочных структур квантовой электроники. Обзор по электронной техники. Серия 11, 1982, вып. 2, 83 с.
  7. В.Т., Ивановский Г. Ф., с.В. Зимин. Источники и оборудования вакуумно-дугового нанесения покрытий. Вакуумная техника и технология. Т. 2, № 3,4, 1992 г., с. 42−46.
  8. .С. Получение тонкопленочных слоев с помощью магнетрон-ной системы ионного распыления. Зарубежная электроника. 1978, № 4, с. 87−105.
  9. JI.K. Осаждение конденсата на поверхности подвижного держателя при некосинусоидальном законе распределения. Оптико-механическая промышленность. 1984. № 3, с. 38−41.
  10. A.C. Физическая сущность формирования тонких пленок и область их применения. Машиностроение. Энциклопедия. «Технология, оборудование и системы управления в электронном машиностроении». Т. III. М. Машиностроение. 2000 г., с. 174−183.
  11. A.B., Потапенко A.A. Термическое испарение в вакууме при производстве изделий радиоэлектроники. М: Радио и связь. 1986. 80 с.
  12. В.Е. Магнетронное распыление и развитие установок для нанесения пленок в производстве ИС. М.: ЦНИИ «Электроника». 1981 г., с. 9−10.
  13. В.Е., Мирошкин С. И. Использование вспомогательного гетте-ро-ионного насоса в напылительной установке. Материалы IV Всесоюзной НТК по вакуумной технике. Казань, 1970 г., с. 105.
  14. М.И., Маишев Ю. П. Вакуумные процессы и оборудование ионно- и электронно-лучевой обработки. М.: Машиностроение. 1989 г., 53 с.
  15. В.Т., Капралова H.A., Ляхович Т. К. Вакуумная плазмённо-дуговая технология металлизации диэлектриков в производстве ИЭТ. Электронная промышленность. № 7. 1984. 22−26 с.
  16. .С. Вакуумная техника в производстве интегральных схем. М.: «Энергия». 1972 г. 256 с.
  17. В.Н. Реализация системного подхода при проектировании вакуумных систем оборудования высоких технологий. Ж. «Вакуумная техника и технология». Т. 9, № 4. 1999 г. с. 13−17.
  18. К.С. Разработка методов расчета и оптимизации вакуумных диффузионных насосов / Дисс. д.т.н. Казань. 1997. 320 с.
  19. А.Б. Современное состояние и перспективы развития вакуумной техники. ЦНИИХИМНЕФТЕМАШ. 1986 г. с. 35−52.
  20. В.Н. Сравнительная оценка современных физических моделей работы диффузионных вакуумных насосов. Материалы НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1999 г.
  21. A.K. Состояние теории и возможные пути развития струйной вакуумной техники. Сб. научных трудов «Газодинамика струйной вакуумной откачки». Под ред. Кутателадзе С. С. Новосибирск. 1985. с. 7−18.
  22. В.И., Юшенкова Н. И. Теория пароструйного вакуумного насоса. ЖТФ. Т. XXIV. Вып. 10.1954 г. с. 1821−1854 г.
  23. В.Н. Сравнительная оценка современных физических моделей работы диффузионных вакуумных насосов. Материалы НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1999 г.
  24. В.Н. Анализ методов математического моделирования диффузионных вакуумных насосов. Вакуумная техника и технология. Т. 9. № 2. 1999 г. с. 23−35.
  25. A.B., Николаев Г. Ф., Приходько Г. Ф., Садыков К. С. Структура струи паров вакуумного насоса, истекающей из звукового сопла. Сб. Газодинамика процессов струйной вакуумной откачки. Новосибирск. 1985 г. С. 127−136.
  26. К.С. О влиянии конденсации на характеристики эжекторных ступеней паромасляных насосов / Тезисы доклада Всесоюзного симпозиума «Состояние и перспективы разработки и производства новых видов вакуумного оборудования». Казань 1981 г. С. 48—49.
  27. В.И., Садыков К. С. Тенденции развития высоковакуумных струйных диффузионных насосов / Вопросы атомной науки и техники. 1988 г. Вып. 4 (44). С. 19—26.
  28. В.Н., Сапежинский М. Г., Балюк В. Г. и др. Исследование возможности откачных характеристик диффузионных вакуумных насосов. Материалы НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1995 г.
  29. И.М. Численные методы Монте-Карло. М.: Наука. 1973 г. .
  30. О.М., Яницкий В. Е. Проблемы численного моделирования течений разреженного газа. / Успехи механики. Т. I, вып. 12, с. 69 112.
  31. В.Н. разработка и исследование элементной базы интегрированных вакуумных систем и создание на их основе оборудования высоких технологий производства изделий электронной техники. Дисс. д.т.н. М. МГИЭМ. 2000 г., 374 с.
  32. В.И., Садыков К. С. и др. Проблемы оценки технического уровня пароструйных насосов / Химическое и нефтяное машиностроение. 1990. № 11. с. 8−10.
  33. К.С. Новые разработки в области вакуумных паромасляных насосов АО «Вакууммаш». Тезисы доклада НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1995 г.
  34. И.Г., Данилин Б. С., Минайчев В. Е., Пискарев А. Ф. Повышение быстроты действия паромасляного диффузионного насоса. «Обмен опытом в электронной промышленности». № 5. 1968 г.
  35. К.С. Разработка методов расчета и оптимизации диффузионных насосов. / Тезисы доклада НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1995 г.
  36. АС СССР № 308 231 Пароструйный вакуумный насос. / Кеменов В. Н., Мусатов В. Н., Муралов С. Ю. БИ № 21. 1971 г.
  37. АС СССР № 584 101 /КеменовВ.Н. БИ№ 35. 1977 г.
  38. АС СССР № 590 494. Способ защиты охлаждаемого корпуса многоступенчатого пароструйного вакуумного насоса / Кеменов В. Н., Костиков Ф. М., Савинский К. А. БИ№ 4. 1978 г.
  39. АС СССР № 1 728 538 Садыков К. С., Фигурнов С. А. БИ № 15. 1992
  40. Н.Е. Тенденции развития элементной базы вакуумных систем в ОАО «Вакууммаш». Материалы НТК «Вакуумная наука и техника». Судак. 2001 г.
  41. Л.А. О расчете параметров молекулярных турбонасосов. Вып. 1. Казань. Татарское кн. из-во. 1968 г., с. 58−64.
  42. Л.А. Метод расчета турбомолекулярных вакуум-насосов. Химическое и нефтяное машиностроение. 1970. № 6.
  43. Е.С. турбомолекулярные вакуумные насосы. М.: Машиностроение. 1980 г. 119 с.
  44. B.C. Вопросы расчета и теории молекулярных турбонасосов / В сб. МИЭМ № 2. 1978 г. с. 22−26.
  45. B.C., Волчкевич Л. И., Демешкевич Т. Б. Турбомолекулярные насосы — современные сверхвысоковакуумные средства безмасляной откачки. Электронная техника. Сер. 1. № 12. 1968. с. 112−117.
  46. Е.С., Демихов К. Е., Никулин Н. К. Расчет откачной характеристики турбомолекулярного вакуум-насоса. Изв. ВУЗов. Машиностроение. 1973 г. № 2 с. 79−82.
  47. Л.Б. Пути развития турбомолекулярных насосов. Электронная техника. Серия 7. Вып. 3112. 1982 г. с. 55−58.
  48. Becker W. Zur Thejrie Turbomolekular pump Vacuum Technic. № 10. 1961. S. 132−135.
  49. Kruger С., Shapiro A. Vacuum Pumping with a blatcd Axial-Flow Pergamon Press. 1960. c. 117−140.
  50. Becker W. Vakuumtechnik, № 3. 1968 г.
  51. H. Патент ГДР. № 38 749. кл 27c. 1965 г.
  52. К.Е., Пыжов И. Н. Модель процесса переноса молекул газа межлопаточными каналами рабочего колеса турбомолекулярного вакуум-насоса. Химическое и нефтяное машиностроение. № 1. 1977. с. 26−27.
  53. Sawada Т. Suzuki М., Taniguchi О. The axial molecular Pump Part 2. Bull of the ISME vol 14. 1971. 67. P. 48−57.
  54. AC СССР № 688 708. Способ регулирования производительности турбомолекулярного насоса / Кеменов В. Н., Леонов Л. Б., БИ № 36. 1979 г.
  55. АС СССР № 567 848 Двухпоточный вакуумный турбомолекулярный насос / Кеменов В. Н., Алексашин В. А., Кузнецов В. Н., Леонов Л. Б. БИ № 29. 1977.
  56. Е.И. Криогенная техника. М.: Машиностроение. 1969 г., 270 с.
  57. В.В., Сороковой Л. Г. К вопросу о криозахвате / «Вопросы атомной науки и техники. Серия низкотемпературная адсорбция и вакуум». Вып. 1. Харьков. ФТИ АН УССР. 1971. с. 158−161.
  58. В.Е., Зыков В. М. Крионасосы. Обзор по электронной технике. 1972 г. 72 с.
  59. Физико-технические основ криогеники. Справочник / под ред. Малюко-ва М.: Энергия. 1973−392 г.
  60. В.П. Высокоэффективный криосорбционный насос новой конструкции. В кн. «Вопросы современной криогеники». М.: Внешториздат. 1975 г. с. 341−359.
  61. А.Д., Гороковский и др. Криогенные газовые машины. М.: Машиностроение. 1982. 315 с.
  62. В.Е. Вакуумные крионасосы. М.: «Энергия». 1976 г., 152 с.
  63. В.И. и др. Криосорбционный насос для вакуумирования крупных камер в кн. «Вопросы вакуумной науки техники». Вып. 2. Изд-во ХФТИ АНУ СССР. 1977. с. 72−73.
  64. Вакуумная техника. Справочник / под ред. Фролова Е. С. М.: Машиностроение. 1992 г., с. 378−404.
  65. М.П. и др. Справочник по физико-техническим основам криогеники. М.: Энергия. 1973. 392 с.
  66. Техника низких температур / под ред. Е. И. Микулина и др. М.: Энергия 1975 г. 512 с.
  67. Р. Криовакуумная техника. М.: «Энергоатомиздат». 1983 г., 228 с.
  68. Рекламные материалы НПО «Сибкриотехника». 12 с.
  69. Вакуумное оборудование (каталог) ОАО «Вакууммаш». 2001 г.
  70. O.K., Леонтьев А. Ф., Варлов В. Я., Платов О. И. Современное состояние и серийный выпуск запорной и регулирующей базы экспериментальных установок и промышленного оборудования. Материалы НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1996 г.
  71. А.Т., Ермаков Е. С., Львов Б. Г. Новые вакуумные клапаны и затворы //Электронная промышленность. № 7−8. 1981 г., с. 27−31.
  72. А.И., Плисковский В. Я., Пенчко Г. А. Конструирование и расчет вакуумных систем. — М.: Энергия. 1979 г., 504 с.
  73. O.K. Вакуумные клапаны, затворы и натекатели. Машиностроение. Энциклопедия. Технология, оборудование и системы управления в электронном машиностроении. Т. III-8. 2000. стр. 318−331.
  74. Г. А., Макаров В. А., Галимов А. Б. Серийно выпускаемая вакуумная арматура // Вакуумная техника и технология. Том 3, № 3, 4. 1993. С. 28−31.
  75. В.А., Фавзиев Г. А. Новые модели высоковакуумных затворов // Вакуумная техника и технология. Т. 3, № 34, 1993 е., 1993, с. 32−33.
  76. А.Т. Обоснование метода проектирования бескорпусных вакуумных затворов. Материалы НТК «Вакуумная наука и техника» — Гурзуф. М. МИЭМ. 1999 г.
  77. В.А., Рогова Г. В. Тенденции развития вакуумных затворов за рубежом // Вакуумная техника и технология. Т. 3 № 3, 4. 1993 г., с. 34−39.
  78. .Г., Шувалов A.C. Техническое обслуживание новой вакуумной коммутационно регулирующей аппаратуры. М.: Высшая школа. 1987 г. 80 с.
  79. С.Н., Панфилов Ю. В. Кластерное оборудование в микроэлектронике. Обзоры по электронной технике. Серия 7. ЦНИИ Электроника, 1994 г. Вып. 1 (1701) 120 с.
  80. Каталог фирмы VAT. 1996 г.
  81. Л.Н. О работе контактного металлического уплотнения. Химическое и нефтяное машиностроение. № 2. 1966 г., с. 18−23.
  82. Л.Н. Вакуумная техника. М.: Высшая школа. 1990 г. — 320 с.
  83. Рот. Вакуумные уплотнения. Пер. с англ. М.: Энергия. 1971 — 584 с.
  84. .Г., Шувалов А. С. Современные сверхвысоковакуумные уплотнения. М.: Высшая школа. 1984 г., 72 с.
  85. Г. Г. Основные элементы механизма герметизации высоковакуумных соединений. Труды МИЭМ. Вып. 20. 1972 г., с. 2834.
  86. М.Н., Розанов JI.H. Теоретические и экспериментальные исследования герметичности контакта двух шероховатых поверхностей при упругопластическом деформировании / Электронная техника. Серия 4. Вып. 6. 1976 г.
  87. В.А. Теоретические и прикладные вопросы создания бескорпусной вакуумной коммутационной аппаратуры и устройств вакуумной механики для многомодульного оборудования высоких технологий. Дисс. к.т.н. МГИЭМ. 2000 г. 216 с.
  88. Каталог вакуумного оборудования ОАО «Вакууммаш». Казань. 2001 г. с. 72−91.
  89. Вакуумная техника. Справочник / Е. С. Фролов, В. Е. Минайчев, А. Т. Александрова и др. — М.: Машиностроение. 1992 г. с. 150−173.
  90. Каталог фирмы VAT (Швейцария). 1996 г.
  91. Каталог фирмы Alcatel (Франция)
  92. Каталог фирмы Leybold (Германия)
  93. Каталог фирмы КАТО (Япония)
  94. Каталог фирмы Balzers (княжество Лихтенштейн)
  95. Каталог фирмы Varian (США)
  96. В.Н. Динамика развития вакуумно-технологического оборудования в России в контексте мирового научно-технического прогресса. Материалы НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1998 г. с. 915.
  97. В.Н. Разработка и исследование элементной базы интегрированных вакуумных систем и создание на их основе оборудования высоких технологий производства изделий электронной техники. Дисс. д.т.н. МГИЭМ. 2000 г. с. 348−351.
  98. O.K., Леонтьев А. Ф., Шмаков и др. Новая запорная и регулирующая вакуумная арматура // Вакуумная техника и технология. Т. 2 № 3,4. 1992 г. с. 32−38.
  99. E.H. Совершенствование конструкции диффузионных вакуумных насосов серии НД. Материалы НТК «Вакуумная наука и техника». Судак. 2001 г.
  100. В.А., Фазиев Г. Р. Новые модели высоковакуумных затворов // Вакуумная техника и технология. Т. 3, № 3, 4. 1993 г.
  101. А.Т. Обоснование метода проектирования бескорпусных вакуумных затворов. НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1999 г.
  102. С.Н. Элементная база электронного машиностроения. СПб. Издательство РНИИ «Электронстандарт». 1993. 44 с.
  103. В.А., Горюнов Новые модели бескорпусных вакуумных клапанов и затворов на основе приводов управляемой упругой деформации // Материалы НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1999 г.
  104. А.Т., Васин В. А., Горюнов A.A. Патент № 2 114 354 «Вакуумный затвор». Опубл. БИ № 78. 1998 г.
  105. Приводы упругодеформируемые РТМ НИИ «Изотерм». Брянск. 1996 г. 103 с.
  106. В.А. Система дозирования и измерения прецизионных газовых потоков в вакуум. НТК «Вакуумная наука и техника». Гурзуф. 1996 г.
  107. В.А., Горюнов A.A. и др. Новые принципы прецизионного дозирования газовых потоков. Научно-технический семинар «Контроль герметичности-98». Тезисы доклада ОАО з-д «Измеритель». Санкт-Петербург. 1998 г.
  108. Каталог вакуумного оборудования ОАО «Вакууммаш». Казань 2001 г. с. 44−63.
  109. E.H. «Тенденции развития элементной базы вакуумных систем в ОАО «Вакууммаш». Материалы НТК «Вакуумная наука и техника». Судак. 2001 г.
  110. Р.Б. Экспериментальные исследования откачных параметров и разработка метода расчета двухроторного вакуумного насоса в условиях низкого вакуума. Автореф. дисс. к.т.н. 20 с.
  111. В.П. Криогенная техника и технология. М.: Энергоиздат. 271 с.
  112. Л.Д., Лившиц Е. М. Теоретическая физика. Т. 6. Гидродинамика. М.: Наука. 1986. 736 с.
  113. E.H. Эффективная автономная система охлаждения диффузионного насоса с замкнутым циклом. «Вакуумная техника и технология». Т 12, № 2. 2002 г.
  114. Хрустал ев В. А. Нанесение тонких пленок в вакууме методами термического испарения и ионно-плазменного распыления. Машиностроение. Энциклопедия. Т III-8 под ред. Панфилова Ю. В. и др. М.: Машиностроение. 2000. с. 208−213.
  115. В.В. Тонкие пленки в технике сверхвысоких частот. М.: Советское радио. 1967 г., 232 с.
  116. Л.К., Дудолаев А. Г., Васецкий Б. Г. Физическая модель процесса вакуумного испарения. Электронная техника. Сер. 11. Лазерная техника и оптоэлектроника. Вып. 3 (25). 1983 г., с. 96−100.
  117. Л.К. Методы расчета и выбора параметров основных элементов оборудования для нанесения многослойных тонкопленочных структур в вакууме. Машиностроение. Энциклопедия. Т. III-8 / под ред. Панфилова Ю. В. М.: Машиностроение. 2000 г.
  118. Л.К. Оборудование для производства изделий квантовой электроники. Машиностроение. Энциклопедия. Т. Ш-8. Под ред. Панфилова Ю.В. М. Машиностроение. 2000 г.
  119. Вакуумное оборудование тонкопленочных технологий производства изделий электронной техники / под ред. Ковалев Л. К. Т. 2. Красноярск. Изд-во Сибирской аэрокосмической Академии, 1996 г.
  120. Н.В. Катодное распыление. М.: Атомиздат. 1968. 343с.
  121. Ю.П. Ионно-лучевая обработка. М.: Машиностроение. Энциклопедия. Технология, оборудование и системы управления в электронном машиностроении. Т. Ш-8 // Ю. В. Панфилов, Л. К. Ковалев и др. 2000. с. 101−115.
  122. М.И., Маишев Ю. П. Вакуумные процессы и оборудование ионно- и электронно-лучевой технологии. М.: Машиностроение. 1989 г. С. 25−31.
  123. Н.В. Физические проблемы катодного распыления. Обзор ИАЭ им. И. В. Курчатова. М., 1979. 87 с.
  124. В.Ф., Горин Ю. Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии. М.: Высшая школа. 1988 г. 255 с.
  125. В.Е. Теоретические основы разработки функциональных устройств и систем и создание комплекса вакуумного оборудования для производства тонкопленочных структур интегральных схем. Автореферат дисс. д.т.н. М., 1984 г., 44 с.
  126. В.А., Минайчев В. Е., Жуков М. С. Современные магнетронные распылительные устройства. Зарубежная электронная техника. М.: ЦНИИ «Электроника». 1982 г. № 10, 62 с.
  127. В.Е. Определение качества распыляемого материала в магне-тронном распылительном устройстве. М.: Электронная техника. Сер. «Микроэлектроника». Вып. 3. 1981 г. с. 57−61.
  128. В.Г. Гринченко, Г. Ф. Ивановский, Зимин C.B. Источники и оборудование вакуумного плазменно-дугового нанесения покрытий. Вакуумная техника и технология. Т. 2 № 3, 4. 1992 г. С. 42−46.
  129. А.Б. Пароструйные вакуумные насосы. М-Л. Энергия. 1965 г. 400 с.
  130. .С., Сырчин В. К. Магнетронные распылительные системы. М.: Радио и связь. 1982 г. 73 с.
  131. В.Е., Одиноков В. В., Тюфаева Г. П. Магнетронные распылительные устройства. Обзоры по электронной техники. Сер. 7. Вып. 8 (659). М.: ЦНИИ «Электроника». 1979. 56 с.
  132. E.H. Исследования влияния положительного пространственного заряда магнетронной распылительной системы на распределение потенциала в разрядной области. Материалы научно-технической конференции «Вакуумная наука и техника». Судак 2002 г.
  133. В.Н., Капустин E.H., Зилова О. С. Исследование структуры тонкопленочных покрытий методом сканирующей зондовой микроскопии. Материалы научно-технической конференции «Вакуумная наука и техника». Судак. 2002 г.
  134. В.В. 40 лет российской электронике через кризис к взлету. «Электронная промышленность». № 1. 2002 г., с. 3−12.
  135. Н.Ф., Зиганшин P.P., Силуянов В. А., Моисеев A.M. Получение покрытий различного назначения на установках УВН-4М, УВН-4ЭД. «Вакуумная техника и технология». Том 6. № 3 1996 г. с. 7−9.
  136. Г. Корн, Т. Корн. Справочник по математике для научных работников и инженеров. Пер. с англ. М. Наука. 1968 г. 720 стр.
  137. Б.С.Данилин, В. К. Сырчин. Магнетронные распылительные системы. М.: Радио и связь. 1982 г. 73 е.,
Заполнить форму текущей работой

Заказал и сдал!