Дипломы, курсовые, рефераты, контрольные...
Срочная помощь в учёбе

Электрохимические, электрокаталитические и микроструктурные аспекты процесса химического осаждения Ni-P покрытий

Диссертация: Электрохимические, электрокаталитические и микроструктурные аспекты процесса химического осаждения Ni-P покрытий
ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

В процессе осаждения покрытий происходят колебания потенциала химического никелирования. Анализ спектров колебаний потенциала" в растворах с различной концентрацией компонентов, в том числе, содержащих стабилизирующие добавки, позволил установить природу колебаний. Наиболее низкочастотные колебания (период >100 с) связаны с формированием слоистой структуры покрытий и изменением каталитической… Читать ещё >

Содержание

  • Список условных обозначений
  • Глава 1. Литературный обзор
    • 1. 1. Механизм восстановления никеля из гипофосфитных растворов химического никелирования
    • 1. 2. Структура и процессы роста №-Р покрытий
    • 1. 3. Влияние стабилизирующих добавок
    • 1. 4. Неравновесные процессы в растворах химического никелирования
    • 1. 5. Процессы окисления. водородсодержащих восстановителей на палладиевом электроде
    • 1. 6. Коррозионная стойкость никель-фосфорных покрытий
  • Глава 2. Методика эксперимента
    • 2. 1. Химическое осаждение никель-фосфорных покрытий и методы исследования их топографии, микроструктуры, коррозионной-стойкости и электрохимического поведения
      • 2. 1. 1. Методика по л учения №-Р покрытий
      • 2. 1. 2. Методы исследования топографии, микрошероховатости и микроструктуры №-Р покрытий
      • 2. 1. 3. Методы изучения коррозионно-электрохимического поведения №-Р покрытий
      • 2. 1. 4. Методы исследования электрохимического поведения №-Р электрода в растворах химического никелирования
    • 2. 2. Методы исследования процессов анодного окисления гипофосфита натрия' на Рс1 электроде
      • 2. 2. 1. Подготовка электродов и определение истинной поверхности электродов
      • 2. 2. 2. Методика изучения электрохимического окисления гипофосфита натрия! на Рс1-мембране
      • 2. 2. 3. Методы изучения электрохимического окисления гипофосфита натрия на гладком Рс1 и Рс1/Р1 электродах
  • Глава 3. Изучение процессов формирования М-Р покрытий
    • 3. 1. Изучение процессов роста №-Р покрытий при различных температурах раствора химического никелирования
    • 3. 2. О причинах «разложения» растворов химического никелирования
    • 3. 3. Периодические явления в растворах химического никелирования >
    • 3. 4. Изучение процесса 'химического, осаждения №-Р покрытий методом импедансной спектроскопии
  • Глава 4. Анодное окисление гипофосфита натрия на стационарных и вращающемся дисковом палладиевых электродах
    • 4. 1. Поляризационные кривые на гладком Рс1 и РсЬТЧ-электродах
    • 4. 2. Анодное окисление гипофосфита натрия на палладиевой мембране
    • 4. 3. Электрохимическое окисление гипофосфита натрия на вращающемся дисковом Рс1/Р1>электроде
  • Глава 5. Коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий
    • 5. 1. Коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий в растворе хлорида натрия
    • 5. 2. Коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий в сульфатных растворах
      • 5. 2. 1. -. Коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий в условиях естественной деаэрации
      • 5. 2. 2. Определение скорости коррозии №-Р покрытий гравиметрическим методом
    • 5. 3. Коррозионно-электрохимическое поведение Ni-P покрытий в деаэрированных сульфатных растворах
  • Выводы

Электрохимические, электрокаталитические и микроструктурные аспекты процесса химического осаждения Ni-P покрытий (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

Химическое никелирование находит широкое применения для получения защитно-декоративных и функциональных Ni-P покрытий. Это также перспективный метод формирования различных наноструктур, поскольку в отличие от электроосаждения не требует токоподводов, металл может осаждаться на электрически изолированные участки нанометровых размеров, что обеспечивает однородность и точность наноструктур. Процессы химического осаждения находят применение в микроэлектронике и наноэлектронике, а> также при создании различных микроэлектромеханических систем (MEMS), где • используются' для осаждения барьерных слоев, тонких металлических пленок, играющих роль проводников, магнитных пленок.

В настоящее время целый ряд аспектов, касающихся механизма процесса химического, никелирования остается до конца не выясненным, что затрудняет использование системного (а не эмпирического) подхода для совершенствования' процессов осаждения покрытий. В частности, не установлен механизм' роста Ni-P покрытий, окончательно не выяснен механизм парциальной^ аноднойреакциипроцесса — окисления NaH2P02, которая является движущей силой процесса и во многом определяет самоорганизующийся характер, рассматриваемой системы. Недостаточно однозначно установлена взаимосвязь между условиями получения, составом, структурой и свойствами Ni-P покрытий.

Целью работы явилось установление закономерностей роста Ni-P покрытий, механизма анодного окисления гипофосфита натрия и оценка коррозионно-электрохимических свойств Ni-P покрытий.

В рамках работы решались следующие задачи:

1. Установление механизма роста Ni-P покрытий и выявление причин, вызывающих «разложение» раствора химического никелирования.

2. Выявление элементов самоорганизации процесса химического никелирования посредством анализа топографии и микроструктуры покрытий, а также анализа спектров колебаний потенциала химического никелирования. Установление природы этих колебаний.

3. Изучение кинетики парциальной анодной реакции процесса — окисления МаН2Р02 на РЙ, выбранном в качестве модельного электрода, а именно, на Рс1-мембране, гладком Раи Рс1/РЬ-электродах и вращающемся дисковом РсЗ/Р^-электроде (ВДЭ) и установление механизма окисления ЫаН2Р02.

4. Установление взаимосвязи между условиями получения, составом, структурой и коррозионно-электрохимическими свойствами N1-? покрытий в хлоридных и сульфатных коррозионных средах. Изучение механизма анодного растворения N1-? покрытий в данных средах имеханизма реакции катодного выделения водорода (РВВ).

Научная новизна

1) Установлено, что рост №-Р покрытийв зависимости от условий может осуществляться, как по механизму слоистого, так и нормального роста. Переход от первого механизма ко второму обусловлен диффузионными затруднениями по доставке ионов никеля к растущей поверхности и увеличением ее каталитической активности. Предельный вариант реализации-механизма нормального ростаобразование глобулярных дендритов с последующим «разложением» раствора химического никелирования.

2) Впервые установлена природа колебаний потенциала химического никелирования. Наиболее низкочастотные колебания (период >100 с) связаны с формированием слоистой структуры покрытий и изменением каталитической активности поверхности к реакции окисления ИаН2Р02. Колебания с меньшими периодами вызваны, преимущественно, протеканием катодных реакций выделения никеля и I водорода.

3) Показано, что процесс окисления МаН2Р02 на Рс1 может быть описан механизмом диссоциативной хемосорбции, в рамках которого получены кинетические уравнения, описывающие окисление НаН2Р02 на Рс1-мембране, гладком Рс1- и Рс1/И-электродах, вращающемся дисковом РсЗ/Иэлектроде.

4) Получены и систематизированы результаты по коррозионно-электрохимическому поведению №-Р покрытий в хлоридных и сульфатных средах. Установлено, что наибольшей коррозионной стойкостью характеризуются аморфные покрытия с максимальным содержанием фосфора (13,4 мас.%). Покрытия с наименьшим содержанием фосфора (8,0 мас.%) обладают наибольшей каталитической активностью в РВВ. Процесс анодного растворения №-Р покрытий может протекать по механизму нестационарной диффузии атомов никеля.

Практическая значимость

На основании установленных закономерностей роста покрытий можно сформулировать рекомендации по получению покрытий с заданными микрорельефом и шероховатостью, а также по увеличению срока службы растворов химического никелирования.

Спектр колебаний потенциала в каждом' растворе индивидуален и может использоваться для мониторинга осаждения качественных покрытий.

Высокая, каталитическая активность №-Р покрытий с низким содержанием фосфора в РВВ по сравнению, с чистым никелем позволяет рекомендовать их в качестве эффективных катодных материалов в кислых сульфатных средах.

Полученные результаты могут быть использованыкак для формирования, теоретических представлений о процессах анодного окисления1 водородсодержащих восстановителей на металлах платиновой группы, так и для создания электродных материалов с высокой каталитической активностью.

Положения, выносимые на защиту:

Экспериментальные результаты и теоретический анализ процессов роста №-Р покрытий. Механизм «разложения» растворов химического никелирования.

Явления самоорганизации при осаждении №-Р покрытий и природа колебаний потенциала химического никелирования.

Экспериментальные результаты и теоретический анализ процесса электроокисления МаНгР02 на палладии.

Результаты, касающиеся коррозионно-электрохимического поведения №-Р покрытий с содержанием фосфора 8−13 мас.% в хлоридных и сульфатных средах. Оценка каталитической активности №-Р покрытий в РВВ и ее механизм.

Апробация работы. Основные положения диссертации докладывались и обсуждались на XIV Российской студенческой научной конференции «Проблемы теоретической и экспериментальной химии» (Екатеринбург, 2004) — Международной научной конференции''Инновационный потенциал естественных наук" (Пермь, 2006) — Всероссийской конференции «Исследования и достижения в области теоретической и прикладной химии» (Барнаул, 2008) — Международной конференции 'Техническая химия. От теории к практике" (Пермь, 2008) — Ш — IV Всероссийской конференции «Физико-химические процессы в конденсированных средах и на межфазных границах ФАГРАН-2008 (Воронеж, 2006,2008).

Публикации. Содержание диссертации отражено в 10 печатных работах, в том числе в 5 статьях в журналах, рекомендованных ВАК РФ.

выводы

1. В процессе роста №-Р покрытий на их поверхности формируются сфероиды, которые обычно вытянуты в плоскости подложки. С увеличением температуры раствора заметно увеличивается высота сфероидов, тогда как их радиус слабо изменяется с ростом температуры из-за перекрывания растущих сфероидов, что подтверждается соответствующими расчетами.

2. В^ зависимости от условий осаждения рост покрытий может, осуществляется, как по механизму слоистого, так и по механизму нормального роста. Переход от первого механизма ко второму обусловлен снижением концентрации ионов никеля у фронта роста и увеличением каталитической активности поверхности покрытия к анодной реакции окисления Н2Р02. Предельный вариант реализации механизма нормального роста — образование глобулярных дендритов с последующим «разложением» раствора химического никелирования.

3. Одной из основных причин* «разложения» раствора химического никелирования является рост дендритных частиц, инициируемый локальным снижением концентрации ионов никеля, плохо сцепленных с покрываемой поверхностью из-за чего металлические частицы попадают в раствор. Для увеличения срока службы растворов химического никелирования следует поддерживать достаточной концентрацию ионов никеля у растущей поверхности посредством корректировки и перемешивания раствора, не осаждать покрытия при высокой плотности загрузки и удалять из раствора уже образовавшиеся частицы.

4. В процессе осаждения покрытий происходят колебания потенциала химического никелирования. Анализ спектров колебаний потенциала" в растворах с различной концентрацией компонентов, в том числе, содержащих стабилизирующие добавки, позволил установить природу колебаний. Наиболее низкочастотные колебания (период >100 с) связаны с формированием слоистой структуры покрытий и изменением каталитической активности поверхности к реакции окисления МаН2Р02. Колебания с меньшими периодами (10−100 с) вызваны, преимущественно, протеканием катодных реакций выделения никеля и водорода.

5. Выявлены элементы самоорганизации исследуемой системы, которые заключаются в изменении механизма роста покрытий в зависимости от условий осаждения и саморегуляции скоростей парциальных процессов, что выражается в колебаниях потенциала химического никелирования.

6. С использованием метода импедансной спектроскопии уточнен маршрут парциальной катодной реакции — восстановления никеля. Для анодной реакции подтверждено наличие гетерогенной химической стадии и рассчитаны ее константы.

7. Парциальная анодная реакция процесса — окисление КаН2РОг на палладии протекает по механизму диссоциативной хемосорбции:

1) Н2РО2″ —> НРОг’адс + Надс

2) НР02 адс + Н20 -> Н2Р03″ + Н* + е

3) Надс <-> Н+ + е

Это подтверждено исследованиями на гладком Рс1- и РбЯЧ-электродах, палладиевой мембране и вращающемся дисковом электроде. Замедленной 1 стадией является гетерогенная химическая реакция — отщепление атома водорода.

I 1

8. Спад анодного тока с ростом скорости вращения вращающегося дискового электрода обусловлен отравлением поверхности фосфором и его соединениями, образующимися-при окислении

9. Исследовано коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий различного состава и структуры в сульфатных и хлоридных средах и установлено, что в нейтральных растворах скорость коррозии слабо зависит от содержания фосфора и обычно несколько увеличивается, если при осаждении покрытий использовали стабилизирующие добавки (РЬС12 и ТМ), близким является анодное поведение покрытий.

Ю.Скорость коррозии №-Р покрытий в 0,5 М сульфатных растворах возрастает при изменении рН раствора от 5,9 до 0,5. Сравнительно слабая зависимость скорости коррозии и анодного поведения покрытий от состава коррозионной среды (рН 0,5−3,0) обусловлена тем, что на поверхности в ходе коррозионного процесса, а также при небольшой анодной поляризации формируется обогащенная фосфором и его соединениями пленка, I растворение никеля через которую, идет по механизму нестационарной твердофазной диффузии. С ростом анодной поляризации начинается окисление фосфора, поверхностный слой разрушается, что вызывает снижение наклонов Е,^-кривых (появляется второй линейный участок). Н. Наиболыную коррозионную стойкость в исследованных средах имеют аморфные покрытия с максимальным содержанием фосфора (13,4 мас.%). Влияние состава и структуры покрытий проявляется с ростом анодной поляризации. Покрытия с наименьшим содержанием фосфора (8,0 мас.%) обладают наибольшей каталитической активностью в РВВ (значительно превышающую активность N1), которая протекает по маршруту разряд-электрохимическая десорбция. Вторая стадия маршрута является лимитирующей.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Brenner A. Nickel plating on steel by chemical reducation / A. Brenner, G.E. Riddel //
  2. J.Res.Natt.Bur.Stand. 1946. V.37, № 7. P. 315−346.
  3. Brenner A. Deposition of nickel and cobalt by chemical reducation / A. Brenner, G.E.
  4. Riddel//J.Res.Natt.Bur.Stand: 1947. V.39- № 10- P. 385−395.
  5. K.M. Физико-химические основы процесса химического никелирования /
  6. К.М: Горбунова, А.А. Никифорова- М.: изд-во АН СССР, I960- 207с.
  7. К.М. Осаящение металлических покрьггий химическим восстановлением /
  8. К.М: Горбунова//ЖВХО им. Д.И .Менделеева. 1980. Т.25, № 2- С.175−188: 5: Шалкаускас М- Химическая металлизация- пластмасс / М. Шалкаускас, А. Вашкялис. JL: изд-во «Химия», 1985.144 с.
  9. Homma Т. Maskless and electroless fabrication of patterned metal nanostructures on siliconvwafers by controlling local: surface 'activities / T. Homma* N. Kubo, T. Osaka // Electrochimica Acta: 2003. V.48i № 20−22: Pi' 3115−3122: ^
  10. Shacham-Diamand Y. Electroless process for micro- and nanoelectronics / Y. Shacham
  11. Diamand, A. Inberg, Y. Sverdlov, V. Bogush, N. Croitoiii, H.: Moscovich, A- Freeman et a/.-//Electrochimica Acta. 2ШЗ:.У.48- № 20 122:Р:2987-^^ !
  12. К.М. Современное’состояние проблемы нанесения покрытий методомвосстановления металлов птофосфитом / К. М. Горбунова, А. А. Никифорова,. Г. А. Садаков//Итоги науки. Электрохимия. 1966. М.: ВИНИТИ, 1968. С.5−51.
  13. Горбунова К. М: Физико-химические основы процесса химического кобал ьтирования
  14. К.М: Горбунова- А. А. Никифорова, Г. А. Садаков- В Л. Моисеев, М. В. Иванов. М.: изд-во «Наука», 1974.220 с.
  15. С. А. Химические и электрохимические способы осажденияметаллопокрытий / С. А. Вишенков. М.: изд-во «Машиностроение», 1975:312 с.
  16. Gawrilov G.G. Chemical (electroless) nickel-plating / G.G. Gawrilov. Redhill: Portcullis Press. 1974.190 p.
  17. T.B. К вопросу о механизме каталитического восстановления металловгипофосфитом / Т. В. Ивановская, K.M. Горбунова // Защита металлов. 1966. Т.2, № 4. С.477−481.
  18. A.A. Рассмотрение механизма, реакций, протекающих в процессехимического никелирования / A.A. Никифорова, Г. А. Садаков // Электрохимия. 1967. Т. З, № 10. С.1207−1211.
  19. А.Ю. О стехиометрии реакции восстановления никеля гипофосфитом в щелочных растворах / А. Ю. Вашкялис, А. В: Ягминене, А. Ю. Прокопчик // Электрохимия. 1979. Т.15, № 12. С. 1855−1857.
  20. K.M. К вопросу о механизме восстановления фосфора4 при образованииникель-фосфорных покрытий, / K.M. Горбунова, A.A. Никифорова // Защита металлов. 1969. Т.5,№ 2. С. 195−198.
  21. Юсис 3.3. О реакции образования. фосфора1 в процессе химического никелирования / 3.3. Юсис, Ю. Ю. Ляуконис, Ю. И. Лянкайтене, A.M. Луняцкас // Защита металлов. 1988. Т.24, № 5. С.843−844. '
  22. Юсис 3.3. Стехиометрия образования фосфора при восстановлении никеля (П) J гипофосфитом / 3.3. Юсис, Ю. Ю. Ляуконис // Журн. неорган, химии. 1989. Т.34,2. С. 337−341.
  23. Abrantes L.M. A probe beam deflection study of the hypophosphite oxidation on a nickelelectrode / L.M. Abrantes, M. C Oliveira, E. Vieil // Electrochimica acta. 1996. V.41, № 9. P.1515−1524.
  24. Touhami M. E. Electrochemical investigation of Ni-P autocatalitic deposition in ammoniacal solutions / M.E.' Touhami, M. Cherkaoui, A. Srhiri, A. Ben Bachir, Chassaing E. //J: Appl. Electrochem. 1996. V.26, № 5. P.487−491.
  25. Zong Y. In situ UV-Vis spectroscopic study of the electrocatalytic oxidation hypophosphite on a nickel electrode / Y. Zong, S. Zhou // Electrochemistry Communication. 1999. V. l, № 6. P. 217−222.
  26. Abrantes L.M. Progress in the understanding of' the hypophosphite oxidation on a. nickebelectrode / L.M. Abrantes, M.C. Oliveira // Electrochimica acta. 1996. V.41, № 10. P. 1703−1711.
  27. Zeng Y. An ESR Study of the Electrocatalytic Oxidation of Hyposphite on a Nickel Electrode / Y. Zeng, Y. Zheng, S. Yu, K. Chen, S. Zhou // Electrochem. Commun. 2002. V.4, № 4. P. 293−295.
  28. Nakai H. Ab Initio Molecular Orbital Study of the Oxidation Mechanism of Hypophosphite Ion as a Reductant for an Electroless Deposition Process / H. Nakai, T. Homma, I. Komatsu, T. Osaka//J. Phys. Chem. 2001. V.105, № 9. P.1701−1704.
  29. Zeng Y. Density functional study of hypophosphite adsorption on Ni (111) and Cu (111) surfaces / Y. Zeng, S. Liu, L. Ou, J. Yi, S. Yu, Wang H., Xiao X. // Appl: Surf. Sei. 2006. V.252, № 8. P. 2692−2701.
  30. Van der Meerakker J.E. A. M .//J. Appl. Electrochem. 1981. V.ll. P.397.32.0hno J. Anodic oxidation of reductants in electroless plating / J. Ohno, J. Wakabayashi, S. Haruyama//J. Electrochem. Soc. 1985. V.132, № 10. P. 2323−2330.
  31. Г. А. Об электрохимическом механизме химического восстановленияметаллов / Г. А. Садаков, К. М. Горбунова // Электрохимия. 1980. Т. 16, № 2. С. 230 235.
  32. Ebn Touhami М. Modelation of Ni-P electroless deposition in ammoniacal solutions / M. Ebn Touhami, E. Chassaing, M. Cherkaoui // Electrochemical Acta. 2003. V.48, № 24. P. 3651−3658:
  33. Ю.И. Действие глицина в процессе химического осаждения Ni-P покрытий гипофосфитом / Ю. ИЬ Лянкайтене, Ю. П. Буткявичюс, A.M. Луняцкас // Электрохимия: 1987. Т.23, № 7. С. 995−997.
  34. Sigita К. Composition and ciystallinity of electroless nickel / K. Sigita, N. Ueno // J.
  35. Electrochem. Soc. 1984. V.131, № 1. P. 111−114. 37.0gburn F. Banded structure of electroless nickel / F. Ogburn, C.E. Johnson // Plating. 1973. V.60, № 10. P. 1043−1044.
  36. Goldstein A.W. Structure of chemically deposited nickel / A.W. Goldstein, W. Rostoker, F.
  37. Schossberger//J. Electrochem.Soc. 1957. V.104. № 2. P.104−108.
  38. В.П. Структура и- фазовые' превращения в осадках химически восстановленного никеля. Дисс.канд. физ.-мат.наук. М., 1964.
  39. Allen R. The structure of electroless Ni-P films as function of. composition / R. Allen- J.B.
  40. Vandersande // Scripta Metallurgica. 1982. V.16,№ 10.P. 1161−1164.
  41. Gorbunova K.M. The early stage of electroless nickel formation / K.M. Gorbunova, V.V.
  42. Kuznetsov, I.V. Petukhov, E.V. Kuznetsova, V.N. Chernikov // Ext. abstracts of 37th meeting ISE. Vilnius. 1986. V.2. P. 98−100.
  43. Pitterman U. Crystallization behavior of thin Ni-P alloy films / U. Pitterman, S. Ripper // Phys. Stat. Solidi. 1986. V.93, № 1. P. 131−142.
  44. Luo W.K., Ma E. EXAFS measurement and Monte Carlo modeling of atomic structure in amorphous Ni8oP2o alloys / W.K. Luo, E. Ma // J. N.-Ciyst. Sol. 2008. V.354, № 10−11. P. 945−955.
  45. Maiton J.P. The nucleation, growth and structure of thin Ni-P films / J.P. Marton, M.
  46. Schlesinger//J- Electrochem. Soc. 1968. Y. l 15, № 1. P.16−21.
  47. Kuo L.-Ch. The activation effect of Pd nanoparticles on electroless nickel-phosphorousdeposition / L.-Gh. Kuo, Y.-Ch. Huang, Ch.-L. Lee, Y.-W. Yen // Electrochim. Acta. 2006. V.52, № 1. P. 353−360.
  48. Zhang X., Ren F., Goorsky M- S., Tu K. N. Study of the initial stage of clectroless. Ni deposition on Si (100) substrates in aqueous alkaline solution// J. Surface and-Coatings Technology. 2006. V.201, № 6.' P. 2724−2732.
  49. Петухов^ И. В- Влияние хлорида свинца на процесс химического осаждения Ni-Pпокрытий / И. В: Петухов, M.F. Щербань // Защита металлов. 1999. Т.35, № 6. С. 613−618¦
  50. Huang Y.S. Effect of complexing agent on the тофЬо^у and microstructure of electrolessdeposited Ni-P alloy / Y.S. Huang, F.Z. Cui // Surface and coatings technology. 2007. V.201, № 9−11. P. 5416−5418. '¦¦.-.. 174.
  51. Elansezhian R. The influence ofSDS and СТАВ surfactants on the surface morphology and surface topography of electroless Ni-P deposits / R. Elansezhian В., Ramamoorthy, P.K. Nair // J-. Mater. Process. 2009. V. 209, № 1. P. 233−240.
  52. Ying ELG. Effects of NH4 °F on the deposition rate and1 buffering capability of electroless Ni
  53. P plating solution / H.G. Ying, M. Yan, T.Y. Ma, J.M. Wu, L.Q. Yu // Surf. Coat. Techn. 2007- V.202, № 2. P. 217−221. !
  54. Горбунова K. Ml Причины возникновения индукционного периода и особенности роста тонких пленок химически восстановленного никеля5/ К. М. Горбунова, И.В.
  55. Петухов- Е. В-.-Ю.М. Кузнецова, Палей II Электрохимия. 1991. Т.27, № 10. C.1261−1266. — ¦¦'":.'.¦
  56. Oliveira. // Appb Catalysis A: General: 2007. V.329: P.7−15. 62. Fundo A. Mi The electrocatalytic behaviour of electroless Ni-P alloys / A. M: Eundo, L.M.
  57. Петухов И. В: О механизме роста Ni-P покрытий, получаемых методом химическогоосаждения / И. В. Петухов // Электрохимия. 2007. Т.43, № 1. С. 36−43.
  58. Петухов И. В- Влияние концентрации компонентов раствора химическогоникелирования- на процесс формирования на топографию и микрорельеф Ni-P покрытий/ И.В. Петухов//Электрохимия. 2008. Т.44, № 2. С.110−118.175
  59. Malecki A. Bespradove wytwarzanie powlok niklowych na metalach / A. Malecki, A. Podgorecka // Zesz. nauk. AGN im. Stanislawa Staszica. Ceram. 1989: V.52. P.73−82.
  60. H.B. Исследование стабилизирующего действия некоторых микродобавок напроцесс химического никелирования / Н. В. Соцкая, О. В. Слепцова, С. В. Садов, Т. А. Кравченко, Х. С. Шихалиев // Журнал прикладной химии. 1983. Т.66, № 7. С. 1639.
  61. В.И. Сравнительные исследования- с некоторыми, стабилизаторами процесса химического никелирования / В. И. Лататуев, В В. Скворцов"// Журнал прикладной химии. 1988. Т.61, № 7. С, 1608−1609. .
  62. Юдина-Т.Ф.-: Строгая Г. М., Кривцов А. К. Химическое, никелирование из аммиачногораствора с поверхностно-активными веществами- Иваново. 1988- 12с. Деп. ВШ-1ИТИ Х"5024-М-88
  63. Ажогин Ф Ф-, Беленький- М-А., Галль И. Е. и др. Гальванотехника: Справочное издание. М.: Металлургия, 1987.736 с.
  64. Р.Г. © применениистабилизаторов при химическом никелировании / Р.Г.
  65. Oberflache. 1984. V.38- № 1. P.2G- 74: Gugau M. Wirkungsmechanismen von -Stabilisatoren in Chemisch-Niekel-Elektrolyten der dritten- Generation / Mi Gugau- H: H- Urbleger, H: Speckhardtr// Materialwissenschaften unci Werkstofftechnik. 1993. V.24. P. 271.
  66. Решетников C. M- Ингибиторы. кислотной ¡-коррозии металлов / С. М: Решетников. Л.:изд-во «Химия», 1986.144с.
  67. Hajbi A- Complexation and adsorption of thiourea in sulfate medium on electrochemicallyroughened silver electrodes / A. Hajbi, P. Chartier, G. Gatz-Grandmont, M.J.F. Leroy // J. Electroanal. chem- 1987. У221, № 1−2. P/159.
  68. Jamaguchi A. Infi-ared adsorption spectra of inorganic coordination complexes. Infrared studies of somemetal thiourea complexes / A. Jamaguchi, R.B. Penland, S. Muzushima,
  69. TJ. Lane, С. Columba, J.V. Quagliano // J. Amer. Chem. Soc.1958. V.80, № 3. P. 527 529.
  70. Sallo J.S. Radiochemical studies of thiourea in electroless deposition process / J.S. Sallo, J.
  71. Kivel, F. Si Albers//J. Electrochem. Soc. 1963. V.110,№ 8. P.40−44.
  72. Kivel J. The effect of thiourea on alkaline electroless deposition / J. Kivel, J.S. Sallo // J. i
  73. Electrochem. Soc. 1965. V.112^ № 12. P.1201−1203.
  74. Щербань M: Г. Анодное окисление гипофосфита натрия и механизм действия стабилизирующих добавок в растворах химического никелирования. Дис.. канд. хим. наук. Пермь, 2000.203с.
  75. И.В. Адсорбция тиомочевины на никелевом, электроде / И. В. Петухов, М.Г.
  76. , В.И. Кичигин // Защита металлов. 1999. Т.35, № 1. С.92−94.
  77. Н.В. Роль органических добавок в электролите химического осаждения* никеля / Н. В. Соцкая, Е. И. Рябинина, Т. А. Кравченко, Х. С. Шихалиев // Зашита металлов. 2003. Т.39, № 3. С.276−280.
  78. ИВ. Кинетика химического осаждения Ni-P сплава в присутствии некоторыхорганических добавок с фрагментом -S-S- / Н. В. Соцкая, Е. И. Рябинина, Т. А. Кравченко, Х. С. Шихалиев //Защита металлов. 2003. Т.39, № 3: С.281−285.
  79. Н.В. Анодное окисление гипофосфита натрия на1 Ni-P электроде вприсутствии ряда органических веществ"/ Н. В. Соцкая, Т. А. Кравченко, Е. И. Рябинина, О. В. Бочарова // Электрохимия. 2003. Т.39- № 9. С.1074−1081.
  80. Chen Ch.-H. Role of Cu2+ as an Additive in an Electroless Nickel-Phosphorus Plating
  81. System: A Stabilizer or a Codeposit? / Ch.-H. Chen, B.-H. Chen, L. Hong // Chem. Mater. 2006. V.18, №.13. P.2959−2968.
  82. P.K., Луняцкас A.M. Раствор химического никелирования: А.с. № 1 110 818, СССР
  83. Xu Н. Mechanism of Stabilizer Acceleration in Electroless Nickel at Wirebond Substrates /
  84. H: Xu, J. Brito, O.A. Sadik//J. Electrochem. Soc. 2003. V.150, №.11. P. 816−822.
  85. Wang К. Investigation into the Roles of Sulfur-Containing Amino Acids in Electroless
  86. Nickel Plating Bath / K. Wang, L. Hong, Zh.-L. Liu // Ind. Eng. Chem. Res. 2008. V.47, №.17. P.6517−6524.
  87. Yin X. Role of a Pb2+ Stabilizer in the Electroless Nickel Plating System: A Theoretical
  88. Exploration / X. Yin, L. Hong, B-N. Chen // J. Phys. Chem. B. 2004. V.108, №.30. P. 10 919−10 929.
  89. B.B. Самоорганизация в электрохимических системах / В. В. Нечипорук, И. Л. Эльгурт. М.: изд-во «Наука», 1992.167 с.
  90. А.Т. Элекгроосаждение металлов / А. Т. Ваграмян. М.: изд-во АН СССР, 1950.158−169 с.
  91. P.C. Периодические явления при осаждении никель-фосфорных сплавов /
  92. P.C. Вахидов, В. И. Попов, А. А. Старченко // Электрохимия. 1970. Т.6, №Г1. С. 17 201 722.
  93. Tian M. Phenomenology of oscillatory electro-oxidation of formic acid at Pd: role of surface oxide films studied by voltammetry, impedance spectroscopy and nanogravimetry / M. Tian, Conway E. Brain //J. Electroanal. Chem. 2005. V. 581, № 2 P.176−189.
  94. Tian Min. Electrocatalysis in oscillatory kinetics of anodic oxidation of formic acid: At Pt- nanogravimetry and voltammetry studies on the role of reactive surface oxide / Min Tian, Conway E. Brain//J. Electroanal. Chem. 2008. V.616, № 1−2. P. 45−56.
  95. Swamy B.E.K. Potential oscillations in formic acid in electrolyte mixtures: Efficiency andstability / B.E.K. Swamy et al// J. Electroanal. Chem. 2009. V.625, № 1. P. 69−74.t i
  96. Johannes C. Spatiotemporal self-organization in the oscillatory HCOOH oxidation on a Pt ribbon electrode Theory and experiments / C. Johannes // Surface Science.104: Inzelt G. Enhanced frequency oscillations accompanying galvanostatic potentiali
  97. Mukouyama Y. Appearance of new potential oscillation during hydrogen evolution reaction by addition of Na2S04 and K2S04 / Y. Mukouyama, M. Kikuchi, H. Okamoto // J. Electroanal. Chem. 2008. V.617, № 2. P. 179−184.
  98. Bertier F. On the nature of the spontaneous observed for- the Koper-Sluyters electrocatalytic reaction / F. Bertier, J.-P. Diard, S Nugues // J. Electroanal. Chem. 1997. V.436, № P.35−42.
  99. H.B. Коррозионные и электрохимические свойства палладия / Н. В. Коровин. М.: изд-во «Металлургия», 1976.240 с.
  100. Д.В. Адсорбция и катализ на металлах VIII группы в растворах / Д. В. Сокольский, Г. Д. Закумбаева. Алма-Ата: изд-во «Наука», 1973.279 с.
  101. Р.У. Определение концентрации и коэффициента диффузии водорода в а-фазе Pd (Н) методом нестационарной диффузии в потенциостатических условиях / Р. У. Брунерс, Ю. М. Максимов, Б. И. Подловченко // Электрохимия. 1986. Т.22, № 2. С. 264−267.
  102. Н.В. О сорбции водорода металлами при анодных процессах / Н. В. Коровин // Электрохимия. 1972. Т.8, № 2. С.172−179.
  103. Г. В. Электроокисление Н2Р02 на Pd-электроде / Г. В. Халдеев, И. В. Петухов, М. Г. Щербань //Электрохимия. 2000. Т.36, № 9. С. 1062−1069.
  104. .И. Исследование электролитических осадков палладия, полученных при различных потенциалах / Б. И. Подловченко, Р. П. Петухова, Е. А. Колядко, А. Д. Лифшиц // Электрохимия. 1976. Т. 12, № 5. С. 813−816:
  105. H.A. Адсорбция и растворение водорода монодисперснымиi ' ¦ '•.¦¦ палладиевыми катализаторами / H.A. Закарина, Г. Д. Закумбаева, Н.Ф. Токтабаева" //
  106. Электрохимия. 1983. Т. 19. С. 938., -• 1
  107. A.B. Электроокисление муравьршной кислота в сернокислом электролите . на: электролитических осадках палладия^/ A.B. Смолин, Б-И. Подловченко, Ю.М.
  108. С.А. Механизм адсорбции- и электроокислсния: формальдегида и муравьиной кислоты, на палладиевом. электроде / G. A- Кулиев- Bi’H. .Андреев, Н-В: Осетрова, B.C. Багоцкий, Ю. Б. Васильев // Электрохимия: 1982. Т. 18, № 6. С. 787 791 •¦¦•:• - - ,
  109. Duncan R.N. Corrosion resistance: of high-phosphorus electroless nickel- coating / R-N. Duncan//Plat, and Surface Finish. 1986. V.73,№ 7. P.52−57.
  110. В .И. Использование химического! никелирования? для- защиты от сероводородной" и -угаекислотной-коррозии / В-Иг Поляков^ ВШ{ Каришн- ЛК Гордиенко//Физ^хим.':мех.матфиапов.'Д986.^.22^Хйг€.1^
  111. Lo Р.-Н. Stress conosion cracking of electioless nickel-plated low-carbon steel in hot concentrated NaOH solutions / P.-H. Lo, W.-T. Tsai, J.-T. Lee H J: Elecrtochem. Soc. 1990. V. 137, № 4. P. 1056−1062.
  112. Takacs D. Effects of pre-tretments on the corrosion properties of electroless Ni-P layers deposited on AlMg2 alloy / D. Takacs, L. Sziraki, T.I. Torok, J. Solyom, Z. Gacsi,.K. Gal-Solumos // Surface & Coatings Technology. 2007. V. 201. P. 4526−4535.
  113. Doong J.C. Corrosin Behaviour of EN Plating Modified TiN coating / J.C. Doong, J.G. Duh, S.Y. Tsai // Surface and Coatings Technology. 1993.V.58, № 3, P. 157−161.
  114. Song Y.W. Corrosion behavior of electroless plating Ni-P coatings depositied on magnesium alloys in artificial sweat solution / Y.W. Song, D.Y. Shan, E.H. Han // Electrochimica Acta. 2007. V.53, №. P.2009−2015.
  115. Gu C. High corrosion-resistant Ni-P/Ni/Ni-P multilayer coating on steel / C. Gu, J. Lian, G. Li, L. Niu, Z. Juang // Surface & Coatings Technology. 2005. V.197. P.' 61−67.
  116. Krolikowski A. Chemical stability of Ni-P alloys effects of structure and composition / A. Krolikowski, B: Pokrywa // Metalurgia i odlewnictwo. 1990. V. l, № 1. P: 111−117.
  117. И.В. Коррозионно-электрохимическое поведение Ni-P покрытий в 0,5 М H2S04 / И. В. Петухов, М. Г. Щербань, Н. Е. Скрябина, JI.H. Малинина // Защита металлов. 2002. Т.38- № 4. С. 419−425.I
  118. Krolikowski A. Anodic dissolution of amorphous Ni-P alloys I A. Krolikowski,. В. Karbownicka, O. Jaklewsciz//Electrochimica Acta. 2006. V. 51, № 27. P. 6120−6127.
  119. Salvago G. Corrosion behaviour of electroless Ni-P coating in, chlorade-contaning enviroments/ G. Salvago, G. Fumagalli, F. Brunella // Surface and" coating tecnology. 1989. V.37, № 4. P. 449−460.
  120. Pedro de Lima-Neto P. Estudos de corrosao de ligas Ni-P e Co-P amorfas e cristalizadas / Pedro de Lima-Neto, F.J.B. Rabelo, A.M.M.M: A.E.R. Gonzalez, L.A. Avaca // Quim Nova. 1996. V.19, № 4. P.345−349.
  121. Singh D.D.N. Electroless nikel-phosphorus coatings to protect steel reinforcement barsfrom chloride induced corrosion / D.D.N. Singh, R. Ghosh // Surface & Coatingsi
  122. Technology. 2006. V. 201, № 1.-P. 90−101.182.
  123. Colaruotolo T.R.P.J. Corrosion- And? Economics of Electroless Nickel Coatings in Chemical- Process Environments / T.R.P.J. Colaruotolo, A. Misereola- B. R Chuba // Materials Perfon-nance. 1986.V.25,№ 8- P. 21−29-
  124. Bai A- The corrosion behaviorof Ni-P deposits with high phosphorous contents in-brine media/ A- Bai- P--Y. Ghuang-.C.rG Hii^// Mater. Gheim Phys. 2003- V.82: P. 93−100-
  125. Sallo J.S., Kivel J., Albers F.S.Radichemicals todies of thiourea in electroless deposition process//J: Electrochem.Soc. 1963- V. 110- № 8: P.40.
  126. CheongW.Protective TOatingonMgAZ91D-Theeffectofelectroless nickel (EN) bath? stabilizers on? conosiom behaviour*- o? Ni-P deposit- / W. Cheong- B: E. Euan, D-W: Shoesmitli//Corrosion Science- 2007. V.49,№ 4. P.1777−1798.
  127. A.M. Технический анализ- руд и минералов. / A.M. Дымов. М.: Металлургиздат. 1949/ 270 с.
  128. И.В. Закономерности формирования химически восстановленных никелевых-покрытий: Дис. канд. хим. наук. Пермь, 1993:196 с.
  129. Breiter М.В. Dissolution and- adsorption of hydrogen at smooth Pd: wires at potential of alpha phase in sulfuric acid solution / M.B. Breiter// J: Electroanal. Chem. 1977. V.81. P. 275−284.
  130. Г. Е. Комплексообразование в системе никель (П) — ацетат-вода / F.E. Кузьминская, А. И- Кублановская, B.C. Кублановский // Укр. хим. журнал. 1979. Т.45, № 10. С. 941−944.
  131. Ю.Д. Электрохимическая кристаллизация металлов и сплавов / Ю. Д. Гамбург. М-: изд-во «Янус-К», 1997. 384 с.
  132. Д. Современные аспекты электрохимии / Д. Бокрис, Б. Конвей. М.: изд-во «Мир», 1967.512 с.
  133. C.JI. Оптимизация эксперимента в химии и химической технологии / СЛ. Ахназарова, В. В. Кафаров. М.: изд-во «Высш. шк.», 1978.319 с.
  134. А.Ю. О термодинамических аспектах стабильности растворов химического осаждения металлов / А. Ю. Вашкялис // Электрохимия. 1978. Т.14, № 11. С. 1770.
  135. И.Б. Электроосаждение металлов в виде дендритов / И. Б. Мурашова, А. В. Помосов // Итоги науки и техники. Электрохимия. 1989. Т.ЗО. С. 55−117.
  136. Дьяконов В. MATLAB 6 Учебный курс / В. Дьяконов. С.-П.: изд-во «Питер», 2001. 592 с.
  137. Ю.Ю. Исследование анодной поляризации никель-фосфорного электрода в ацетатном растворе химического никелирования / Ю. Ю. Ляуконис, 3.3. Юсис // Исследования в области осаждения металлов. Вильнюс, Минтис: 1986. С. 156−161.
  138. А.М. Концентрационные автоколебания / A.M. Жаботинский. М.: Изд-во «Наука». 1974.179 с.
  139. Epelboin I. The study of the passivation process-by the electrode impedance analysis /1. Epelboin, C. Gabrielli, M. Keddam, H. Takenouti // Comprehensive Treatise on Electrochemistry. New York: Plenum Press, 1981.V.4. P.151−192.
  140. В.И. Импеданс электрохимических и коррозионных систем / В. И. Кичигин, И. Н. Шерстобитова, А. Б. Шеин. Пермь. 2009.239 с.
  141. Nicholson R.S. Theory of Stationary Electrode Polarography. Single Scan and Cyclic Methods Applied to Reversible, Irreversible, and Kinetic Systems / R.S. Nicholson, I. Shain// Anal. Chem. 1964. V.36, № 4. P. 706−723.
  142. М.В. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия химически осажденных Ni-B покрытий / М. В. Иванов, Е. Н. Лубнин, А. Б. Дровосеков // Защита металлов. 2003. Т.39. С. 155. '
  143. И.К. Анодное растворение и селективная коррозия сплавов / И. К. Маршаков, А. В. Введенский, В. Ю. Кондрашин, Г. А. Боков. Воронеж: Изд-во «ВГУ», 1988.288 с.
  144. Habazaki Н. The effects of structural relaxation and crystallization on the corrosion behavior of electrodeposited amorphous Ni-P alloys / H. Habazaki, Y.-P. Lu, A. Kawashima, K. Hashimoto // Corrosion Science. 1991. V.32. P. 1227.
  145. Cheong W. Protective coating on Mg AZ91D The effect of electroless nickel (EN) bath stabilizers on corrosion behaviour of Ni-P deposit / W. Cheong, B.L. Luan, D.W. Shoesmith// Corrosion Science. 2007. V.49, № 4, P. 1777−1798.
  146. .Б. Электрохимия / Б. Б. Дамаскин, O.A. Петрий, Г. А. Цирлина. М.: изд-во «Химия», «КолосС-Химия», 2006 г.
  147. Brug G.J. The kinetics of the reduction of protons at polycrystalline and monocpystalline gold electrodes / G.J. Brug, M. Sluyters-Rehbach, J.H. Sluyters // J. Electroanal. Chem. 1984. V. 181, № 1−2. P. 245−266.
  148. B.B. Кузнецов, Г. В. Халдеев, В. И. Кичигин Наводороживание металлов в электролитах / В. В. Кузнецов, Г. В. Халдеев, В. И. Кичигин. М.: изд-во «Машиностроение» 1993. с. 5.
Заполнить форму текущей работой

Заказал и сдал!