Дипломы, курсовые, рефераты, контрольные...
Срочная помощь в учёбе

Научное и технологическое обеспечение нанесения упрочняющих наноразмерных тонкопленочных покрытий для изделий электронной техники

ДиссертацияПомощь в написанииУзнать стоимостьмоей работы

Экспериментально обнаружено, что независимо от метода осаждения с уменьшением толщины пленки проявляется наноэффект повышения микротвердости, однако степень ее повышения от метода осаждения зависит. щ 3. Впервые для таких материалов электронной техники, как Ti и Nb экспериментально установлено, что обеспечить высокую твердость многослойной композиции на основе наноразмерных пленок возможно при… Читать ещё >

Содержание

  • 1. АНАЛИТИЧЕСКИЙ ОБЗОР ТЕНДЕНЦИЙ РАЗВИТИЯ И
  • ПЕРСПЕКТИВЫ ПРИМЕНЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ
    • 1. 1. Многослойные тонкопленочные покрытия и области их применения
      • 1. 1. 1. Микроэлектроника
      • 1. 1. 2. Микроэлектромеханика
      • 1. 1. 3. Оптика
      • 1. 1. 4. Машиностроение. щ
    • 1. 2. Особенности технологий формирования многослойных нанокомпозитных тонкопленочных покрытий
    • 1. 3. Оборудование для нанесения многослойных тонких пленок
    • 1. 4. Перспективные направления применения тонкопленочных нанокомпозитных материалов
  • Выводы по первой главе
  • 2. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ АСПЕКТЫ ФОРМИРОВАНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ НАНОКОМПОЗИТНЫХ * СТРУКТУР И ПРОБЛЕМЫ ИЗМЕРЕНИЯ ИХ МЕХАНИЧЕСКИХ СВОЙСТВ
    • 2. 1. Процесс формирования тонких пленок в вакууме
    • 2. 2. Влияние структуры пленки на ее механические свойства
    • 2. 3. Влияние границ раздела поверхностей на свойства многослойной пленки. ф
    • 2. 4. Влияние поверхности пленки на ее свойства
    • 2. 5. Теоретические модели расчета твердости
    • 2. 6. Проблемы измерения твердости тонких пленок посредством микро- и наноиндентирования
      • 2. 6. 1. Особенности микроиндентирования
      • 2. 6. 2. Особенности наноиндентирования
  • Выводы по второй главе
  • 3. РАЗРАБОТКА ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ ТОНКИХ ПЛЕНОК
    • 3. 1. Опытно-экспериментальное оборудование
      • 3. 1. 1. Установка плазмохимического осаждения
      • 3. 1. 2. Установка нанесения тонких пленок в вакууме
      • 3. 1. 3. Вакуумный универсальный пост
    • 3. 2. Промышленная установка вакуумного нанесения тонких пленок
    • 3. 3. Аналитическое и измерительное оборудование
  • Выводы по третьей главе
  • 4. ИССЛЕДОВАНИЕ СВОЙСТВ ОДНО- И МНОГОСЛОЙНЫХ НАНОРАЗМЕРНЫХ ПЛЕНОЧНЫХ СТРУКТУР
    • 4. 1. Осаждение Al, Си, Ti и Nb пленок на А1 основу
    • 4. 2. Осаждение Ti/"-C:H, Ti/"-C:H/Ti, Ti/Cu, Ti/Cu/Ti пленочных структур на А1 основу
    • 4. 3. Осаждение А1 и Ti пленок на основу из коррозионно-стойкой стали
    • 4. 4. Осаждение Ti/Al многослойных структур на основу из коррозионно-стойкой стали
    • 4. 5. Осаждение Ti и многослойных Nb/Ti нанопленок ф на А1 основу
    • 4. 6. Осаждение многослойных пленочных структур титан/гидрогенизированный аморфный углерод
  • Выводы по четвертой главе

Научное и технологическое обеспечение нанесения упрочняющих наноразмерных тонкопленочных покрытий для изделий электронной техники (реферат, курсовая, диплом, контрольная)

В последнее время во многих областях науки и техники возрос интерес и ^ произошло расширение области применения многослойных покрытий с толщиной слоев менее 1 мкм. Это обусловлено возможностью значительной модификации или даже принципиального изменения свойств известных материалов, а также новыми возможностями создания материалов и изделий из структурных элементов нанометрового размера.

Варьируя толщиной пленок можно независимо от химического состава управлять свойствами материалов, например, получать диэлектрические или полупроводниковые характеристики у металлов, достигать более высокой прочности и микротвердости, например, меди и алюминия по сравнению с тиф таном или сталью, а используя многокомпонентные, многофазные и многослойные пленки можно формировать нанокомпозитные материалы с очень широким диапазоном функциональных назначений.

Различного рода нанокомпозитные пленочные структуры, обладающие заданными характеристиками, являются основой для дальнейшего развития таких областей как электроника, машиностроение, микросистемная техника, оптика, энергетика, биотехнология и многих других.

Сегодня, многослойные тонкопленочные покрытия используются в качеф> стве элементов сверхбольших интегральных микросхем (СБИС), рентгеновских зеркал, устройств с эффектом гигантского магнитного сопротивления (ГМС), микроэлектромеханических систем (МЭМС) — микродвигатели, зубчатые микромеханизмы, микротурбины, микропинцеты и др., кантилеверов сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ), обрабатывающего инструмента (сверла для печатных плат и керамики, пробойники для перфорации и т. п.). В качестве мате-ф риалов таких покрытий используются металлы, например, Ti, Nb, Al, Си, W, Pt,.

Au, а также алмазные и алмазоподобные пленки, нитриды, карбиды, оксиды и силициды металлов.

Одновременно с резким расширением ассортимента используемых материалов произошла переоценка и пересмотр требований к их параметрам, в частности, необходимым условием становится обеспечение совокупности функциональных характеристик использующихся материалов: кристаллохимической и термохимической совместимости, механической, тепловой и электрической стойкости, биосовместимости, низкой механической и термохимической усталости и электрической деградации.

При получении слоев с толщиной нанометрового диапазона возникают принципиальные трудности физического и технологического характера, в том числе связанные с методами исследования материалов и контроля изделий.

Исследованиями многослойных тонкопленочных покрытий занимались Ковалев JI. И. (квантовая электроника), Одиноков В. В. (микроэлектроника), Марахтанов М. И. (теплозащитные покрытия), Лучинин В. В. (микросистемная техника) и другие ученые. Однако в их работах не акцентировалось внимание на упрочняющие свойства наноразмерных многослойных покрытий, от которых зависит работоспособность СБИС, МЭМС, СЗМ, а также обрабатывающего инструмента для изделий электронной техники.

На сегодняшний день в области получения многослойных тонкопленочных покрытий с улучшенными механическими свойствами остаются открытыми вопросы выбора материала, толщины и количества слоев, формирования заданной структуры пленок, подготовки поверхности подложки перед осаждением покрытия и т. д.

Таким образом, возникла необходимость в создании научных основ выбора методов и режимов формирования упрочняющих наноразмерных многослойных тонкопленочных покрытий и измерения их характеристик для выявления взаимосвязей между структурными параметрами тонких пленок (размером наночастиц, включений, дефектов, толщины слоев и др.), морфологии границ раздела и свойствами нанокомпозитного материала в целом, а также для определения граничных условий формирования тонкопленочных структур с необходимыми функциональными характеристиками.

Цель работы.

Создание научных основ выбора методов и режимов формирования нано-размерных тонких пленок и многослойных структур с повышенными механическими свойствами и измерения их характеристик.

Для достижения этой цели в работе решались следующие основные задачи:

— анализ существующих методов и средств нанесения многослойных упрочняющих покрытий;

— теоретические и экспериментальные исследования методов и режимов нанесения наноразмерных многослойных покрытий в едином вакуумном цикле;

— теоретические и экспериментальные исследования методов измерения прочностных свойств наноразмерных многослойных тонкопленочных покрытий;

— разработка многопозиционного вакуумного оборудования для нанесения упрочняющих наноразмерных многослойных покрытий;

Научная новизна.

1. Впервые для ряда металлических (Al, Си, Ti, Nb) и углеродных алмазо-подобных (а-С:Н) пленок получены количественные характеристики повышения механических свойств (микротвердость) наноразмерных тонких пленок (наноэффект) по сравнению с пленками микрометрового диапазона и массивными материалами.

2. Экспериментально обнаружено, что независимо от метода осаждения с уменьшением толщины пленки проявляется наноэффект повышения микротвердости, однако степень ее повышения от метода осаждения зависит. щ 3. Впервые для таких материалов электронной техники, как Ti и Nb экспериментально установлено, что обеспечить высокую твердость многослойной композиции на основе наноразмерных пленок возможно при объединении в одном многослойном покрытии сверхтонких пленок с толщиной не более 10. 15 нм.

Практическая ценность работы.

1. В результате анализа существующих методов нанесения тонкопленочных покрытий установлено, что для формирования широкого спектра многофункциональных тонкопленочных покрытий наиболее перспективно объединение методов магнетронного распыления, импульсного дугового и ионно-лучевого осаждения в одном технологическом цикле.

2. Получены технологические режимы и показана практическая возможность одновременного функционирования нескольких источников с принципиально различными методами осаждения тонких пленок, такими как магнетрон-ное распыление и ионно-лучевое осаждение.

3. В результате исследований установлено, что в многослойных компози-* циях рекомендуется объединять слои и пленки материалов, которые значительно отличаются по механическим характеристикам (твердость), обладают высокой стабильностью свойств и обеспечивают прочную связь (адгезия) между слоями, например, Ti и а-С:Н.

Методы исследования.

В работе использованы теория планирования эксперимента и математической статистики, теоретические модели расчета механических свойств тонких пленок.

Экспериментальная часть работы выполнялась в лабораториях МГТУ им. Н. Э. Баумана, МИСиС и ОАО «Московский завод «СПРИНТ».

Достоверность результатов.

Достоверность результатов диссертационных исследований обеспечивается использованием современного аналитического и измерительного оборудование, анализом и учетом возможных источников погрешностей и статистической обработкой результатов измерений.

Вклад автора.

Диссертационная работа представляет собой обобщение результатов исследований, полученных автором лично и совместно с сотрудниками МГТУ им. Н. Э. Баумана Бойченко М. К. и Быковым Ю. А., а также с сотрудниками МИСиС Петржик М. И. и Штанским Д. В. и с сотрудниками ОАО «Московский завод «СПРИНТ» Бусловым В. Ю. и Свистуновым С. В.

Научный руководитель Панфилов Ю. В. и научный консультант Булыги-на Е. В. принимали участие в постановке задач, обсуждении полученных результатов и редактировании статейБойченко М. К. — в проведении совместных исследований твердости покрытий посредством микроиндентированияПетржик М. И. — в проведении совместных исследований твердости покрытий посредством наноиндентирования и анализе полученных результатов.

Апробация.

Основные положения диссертационной работы докладывались и обсуждались на Международной молодежной научной конференции «XXVII Гага-ринские чтения» (Москва, 2001), на 4-ом Международном симпозиуме «Вакуумные технологии и оборудование» (Харьков, 2001), на 6-ом Всероссийском совещании-семинаре «Инженерно — физические проблемы новой техники» (Москва, 2001), на III Всероссийской научной конференции «Молекулярная физика неравновесных систем» (Иваново, 2001), на УП, VIII, IX Международной научно-технической конференции «Высокие технологии в промышленности России» (Москва, 2001;2003), на VIII, IX, X научно-технической конференции с участием зарубежных специалистов «Вакуумная наука и техника» (Москва, 2001;2003), на 14,15-ом Международном симпозиуме «Тонкие пленки в оптике и электронике» (Харьков, 2002;2003), на 8-ой Всероссийской научно-технической конференции «Состояние и проблемы измерений» (Москва, 2002), на NATO-Russia Advanced Research Workshop «Nanostructured Thin Films and Nanodispersion Strengthened Coatings» (Moscow, 2003), на XVI Международном симпозиуме «Тонкие пленки в электронике» (Москва, 2004).

Публикации.

По теме диссертации опубликовано 17 печатных работ в научных журналах, а также в материалах всероссийских и международных конференций и симпозиумов.

Структура и объем работы.

Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения, списка литературы из 78 наименований и 1 приложения. Работа содержит 186 страниц машинописного текста, в том числе 20 таблиц и 103 рисунка.

Выводы по четвертой главе.

1. Экспериментально подтверждено:

— механические свойства материала пленки (в данном случае твердость) сильно зависят от ее размеров (наноэффект);

— пленки с нанометровыми толщинами обладают твердостью, которая в несколько раз превышает значение твердости обычных массивных материалов;

— с уменьшением толщины слоев многослойной композиции уменьшается значение критической нагрузки, вызывающей образование трещин в покрытии;

2. Экспериментально установлено:

— в многослойном покрытии может происходить разупрочнение сверхтонких пленок при выборе материалов составляющих слоев случайным образом;

— для сохранения наноэффекта в многослойном покрытии необходимо избирательно подходить к определению толщины каждого конкретного слоя;

— при объединении в одном многослойном покрытии сверхтонких пленок с толщиной до 10. 15 нм не происходит разупрочнения всей пленочной композиции, а наблюдается прирост ее твердости;

— наноэффект проявляется на тонких пленках (50. 150 нм) независимо от материала пленки, материала основы и метода нанесения покрытия;

— на проявление наноэффекта для однослойных металлических пленок практически не оказывает влияния температура предварительного нагрева основы в пределах 100 °C.350 °С;

— для многослойных композиций на основе металлических пленок с увеличением количества слоев в покрытии и с увеличением процентного содержания более твердой составляющей, твердость покрытия снижаетсяи наоборот, с увеличением процентного содержания более пластичной составляющей, твердость покрытия повышается;

— с увеличением толщины пластичного слоя твердость многослойной композиции незначительно уменьшается, но одновременно с этим возрастает значение критической нагрузки, т. е. композиция становится менее хрупкой и восприимчивой к высокой скорости деформации;

— посредством наноиндентирования можно обнаружить межфазные границы раздела между слоями в многослойном покрытии при достаточно низких скоростях деформирования.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

.

Проведенные научные и экспериментальные исследования показали, что формирование многослойных наноразмерных материалов возможно только с помощью специальных технологий, отличительной чертой которых является избирательный характер выбора маршрута, метода и режимов осаждения пленок.

В настоящей работе были получены следующие основные результаты:

1. Проведенный анализ состояния, тенденций развития и областей применения многослойных покрытий, а также оборудования и методов их формирования показал, что наиболее востребованными и перспективными для получения наноразмерных пленок являются методы магнетронного распыления, импульсного дугового и ионно-лучевого осаждения, позволяющие в пределах одного рабочего цикла воспроизводимо изменять толщину и количество слоев.

2. Проведенные исследования показали, что для повышения механических свойств (микротвердость) ряда металлических (Al, Си, Ti, Nb) и углеродных алмазоподобных (а-С:Н) пленок необходимо уменьшать их толщину до нанометровых размеров (10. 150 нм), при которых независимо от материала пленки, материала и температуры основы (в пределах 373.623 К) микротвер-достъ повышается в 1,5.4 раза (наноэффект) по сравнению пленками микрометровой толщины и монолитным материалом.

3. В результате исследований установлено, что в многослойных тонкопленочных покрытиях рекомендуется объединять слои материалов, которые значительно отличаются по механическим характеристикам, обладают высокой стабильностью свойств и обеспечивают прочную связь (адгезия) между слоями, например, Ti и а-С:Н.

4. Посредством микрои наноиндентирования получены результаты исследований многослойной структуры Ti/a-C:H/Ti/a-C:H/Ti, согласно которым для управления прочностью и пластичностью тонких пленок необходимо создавать в пленочных материалах дислокационные барьеры (межфазные поверхности раздела) и регулировать расстояние между ними.

5. Впервые для таких материалов электронной техники, как Ti и Nb экспериментально установлено, что для повышения твердости многослойной композиции на основе наноразмерных пленок необходимо объединение в одном многослойном покрытии сверхтонких пленок с толщиной не более 10. 15 нм.

БЛАГОДАРНОСТИ.

Считаю своим долгом выразить глубокую благодарность своему научному руководителю д.т.н., профессору Панфилову Ю. В. и научному консультанту к.т.н., доценту Булыгиной Е. В. за постоянное внимание и поддержку. Бусло-ву В. Ю., Свистунову С. В., Карабанову Ю. В., Пинчукову В. С. и Хореву А. А. — за помощь в проведении экспериментов и наладке промышленного оборудования. Бойченко М. К., Быкову Ю. А., Петржик М. И., Штанскому Д. В. — за помощь в исследовании полученных пленок. Выражаю глубокую благодарность Пащенко П. В., Моисееву К. В., Залесову А. Н. и Прасолову С. Н. за помощь в проведении экспериментов и наладке оборудования. Выражаю глубокую благодарность Пащенко П. В., Колесникову А. Г., Воронову В. В. за помощь во внедрении результатов на промышленных предприятиях и их использовании в учебном процессе.

Показать весь текст

Список литературы

  1. Перспективы развития микросистемной техники в XXI веке / Д. М. Климов, А. А. Васильев, В. В. Лучинин и др. // Микросистемная техника. -1999,-№ 1.-С. 3−6.
  2. Нанотехнологии и зондовая микроскопия / Ж. И. Алферов, А. Л. Асеев, С. В. Гапонов и др. // Микросистемная техника. 2003. — № 8. — С. 3−13.
  3. И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии. Пер. с англ. М.: Мир, 1985. — 496 с.
  4. Ю.В., Рябов В. Т., Цветков Ю. Б. Оборудование производства интегральных микросхем и промышленные роботы. Учеб. для техникумов. — М.: Радио и связь, 1988. 320 с.
  5. .С., Сырчин В. К. Магнетронные распылительные системы. -М.: Радио и связь, 1982. 72 с.
  6. А.П., Белянин А. Ф., Семенова И. А. Низкотемпературный синтез тонких пленок алмазоподобного углерода пучками заряженных частиц // Тонкие пленки в электронике.: Сб. докл. 12-ого Международного симпозиума -Харьков, 2001. С. 156−160.
  7. Слоистые структуры алмаз/AlN в устройствах электронной техники / А. Ф. Белянин, П. В. Пащенко, А. А. Бляблин и др. // Тонкие пленки в электронике.: Сб. докл. 12-ого Международного симпозиума Харьков, 2001. — С. 65−72.
  8. Установка для формирования многослойных структур на основе алмазных пленок / А. Ф. Белянин, П. В. Пащенко, К. Ю. Петухов и др. // Алмазные пленки и пленки родственных материалов.: Сб. докл. 5-ого Международного симпозиума — Харьков, 2002. С. 105−111.
  9. М.И., Белянин А. Ф. Алмазные и алмазоподобные углеродные пленки: формирование и строение // Тонкие пленки в оптике и электронике.: Сб. докл. 15-ого Международного симпозиума Харьков, 2003. — С. 6−38.
  10. А.В., Лучинин В. В. Перспективная элементная база микросистемной техники // Микросистемная техника. — 1999. № 1. С. 12−15.
  11. В.А. Микромеханика для сканирующей зондовой микроскопии и нанотехнологии // Микросистемная техника. — 2000. № 1. С. 21−33.
  12. П.П., Телец В. А., Никифоров А. Ю. Технологии и изделия микроэлектромеханики // Микросистемная техника. 2001. — № 10. С. 18−24.
  13. Е.В., Старжинский В. Е., Шилько С. А. Технология изготовления зубчатых колес и передач для микроэлектромеханических систем // Микросистемная техника. 2003. — № 10. С. 2−5.
  14. В.Д., Пурцхванидзе И. А. Технологическая модульность в микросистемной технике // Микросистемная техника. 2003. — № 9. С. 17−21.
  15. Szczyrbowski J., Brauer G., Teschner G. Antireflective coatings on large scale substrates produced by reactive twin-magnetron sputtering // Journal of Non-Crystalline Solids. 1997. — Vol. 218. — P. 25−29.
  16. Szczyrbowski J., Brauer G., Ruske M. Some properties of ТЮ2 layers prepared by mid-frequency and dc reactive magnetron sputtering // Journal of Non-Crystalline Solids. — 1997. — Vol. 218. — P. 262−266.
  17. Brauer G., Szczyrbowski J., Teschner G. New approaches for reactive sputtering of dielectric materials on large scale substrates // Journal of Non-Crystalline Solids. 1997. — Vol. 218. — P. 19−24.
  18. Szczyrbowski J., Brauer G., Ruske M. New low emissivity coating based on TwinMag sputtered Ti02 and Si3N4 layers // 2-nd International Conference on Coatings on Glass (ICCG) 1998. — P. 368−373.
  19. В.В., Бизюков А. А., Федоров С. А. Импульсное вакуумно-плазменное нанесение защитных покрытий на электрофотографические цилиндры//Микросистемная техника. -2001. -№ 10. С. 41−43.
  20. А.И. Структура и прочность слоистых и дисперсноупроч-ненных пленок. М.: Металлургия, 1986. — 143 с.
  21. Патент 1 783 856 РФ. Способ получения износостойких покрытий на изделиях из твердых сплавов / И. Ю. Коняшин, Е. Ю. Леонов, А. И. Аникеев и др. //Б. И. -1995.- № 8.
  22. Патент 2 012 693 РФ. Способ получения покрытия / Ю. А. Скажутин, Е. П. Пантелеев, А. Н. Падеров и др. // Б.И. 1994. — № 9.
  23. Патент 2 026 412 РФ. Защитное износостойкое покрытие рабочей поверхности измерительных инструментов / Э. И. Точицкий, О. В. Селифанов, В. В. Акулич и др. // Б.И. 1995. — № 1.
  24. Патент 2 039 844 РФ. Способ нанесения на изделия защитно-декоративных покрытий / Г. Б. Вахминцев, В. И. Березников, Л. А. Уваров и др. // Б.И. -1995. -№ 20.
  25. Патент 2 061 090 РФ. Многослойное износостойкое покрытие / А. С. Верещака, А. К. Кириллов // Б.И. 1996. — № 15.
  26. Патент 2 062 817 РФ. Способ повышения износостойкости режущих инструментов / Г. В. Костин, A.M. Гордон, Э. Л. Федоров и др. // Б.И. 1996. — № 18.
  27. Патент 2 065 508 РФ. Способ нанесения углеродного защитного покрытия / С. А. Воронов // Б.И. 1996. — № 23.
  28. Патент 2 070 609 РФ. Многослойный материал для покрытия / Б.С. Хомяк//Б.И. 1996.-№ 35.
  29. Патент 2 070 610 РФ. Многослойный материал для покрытия / Б. С. Хомяк // Б.И. 1996. -№ 35.
  30. Патент 2 078 447 РФ. Многослойный материал для покрытия / Б. С. Хомяк, В. И. Шумейко, В. А. Сысоев и др. // Б.И. 1997. — № 12.
  31. Патент 2 096 518 РФ. Многослойное композиционное покрытие на режущий и штамповый инструмент / А. С. Верещака, Г. В. Болотников, А. К. Кириллов и др. // Б.И. 1997. — № 32.
  32. Патент 2 109 083 РФ. Способ плазменно-дугового нанесения покрытий в вакууме / В. А. Косинов, О. В. Косинов // Б.И. 1998. — № 11.
  33. Патент 2 127 772 РФ. Многослойное тепловое барьерное покрытие подложки из сверхпрочного сплава и способ его нанесения / Д. С. Рикерби, Р. Д. Винг // Б.И. — 1999. № 8.
  34. Патент 2 167 216 РФ. Способ упрочнения твердосплавного режущего инструмента / К. Н. Полещенко, И. Г. Волошина, С. Н. Поворознюк и др. // Б.И. -2001.-№ 14.
  35. Патент 2 171 315 РФ. Способ получения защитного покрытия на лопатках газовых турбин / Е. Н. Каблов, С. А. Мубояджян, С. А. Будиновский и др. // Б.И.-2001.-№ 21.
  36. Патент 96 120 506 РФ. Способ нанесения защитных покрытий в вакууме / В. Н. Анциферов, С. П. Косогор // Б.И. 1998. — № 36.
  37. Патент 99 111 868 РФ. Способ формирования сверхпроводящего пленочного покрытия из нитрида ниобия и проводника на его основе / А.Ж. Туле-ушев, Ю. Ж. Тулеушев, В. Н. Лисицын и др. // Б.И. 2001. — № 19.
  38. А.С., Елютин А. В. Разработка режущей градиентно-композиционной керамики с покрытием и определение областей ее технологического применения // Тез. докл. по материалам отчетных конференций. Министерство Образования РФ. М., 2001. — С. 21.
  39. Phani A. R., Haefke Н. Nanostructured А^ОзМгОг multilayered thin films deposited by a sol-gel dip coating technique // 7-th International conference on nanostructured materials NANO-2004.: Book of abstracts Wiesbaden, Germany, 2004.-P. 412.
  40. Технологические возможности структурной модификации свойств многофункциональных покрытий / Г. Д. Кузнецов, В. П. Сушков, В. А. Филатов и др. // Тез. докл. по материалам отчетных конференций. Министерство Образования РФ. М., 2001. — С. 88.
  41. В.В. Основы расчета параметров и создание автоматизированного многокамерного вакуумного оборудования непрерывного действия с магнетронными системами распыления для производства СБИС: Автореф. дис.. канд.техн.наук. М., 1995. — 48 с.
  42. В.В., Гольцев В. П., Гоев А. И. Влияние предварительного ионного облучения (метод КИБ) на физико-механические свойства материала подложки // Вакуумная техника и технология. — 1991. № 2. — С. 32−36.
  43. Локализованная деформация многокомпонентных тонких пленок / Ф. В. Кирюханцев, А. Н. Шевейко, Д. В. Штанский и др. // Тез. докл. по материалам отчетных конференций. Министерство Образования РФ. М., 2001. — С. 84.
  44. S., Reprich S. // Thin Solid Films. 1995. — Vol. 268. — P. 64.
  45. А.Н. Исследование многослойных наноструктур и теплофизических процессов синтеза интерметаллидов на их основе: Автореф. дис.. канд.техн.наук. -М., 2004. 18 с.
  46. Вакуумное модульное оборудование для экологически чистых и ресурсосберегающих технологий: Анализ проблем. Пути решения / Н. В. Василенко, Е. Н. Ивашов, JI.K. Ковалев и др. Красноярск: НИИ СУВПТ- М.: Московский полиграфический дом, 1999. — 96 с.
  47. А.И., Хохлов А. Ф., Ершов А. В. Наноразмерные тонкопленочные мультиструктуры на основе аморфного кремния // Тез. докл. по материалам отчетных конференций. Министерство Образования РФ. — М., 2001. С. 10.
  48. Повышение стойкости инструмента с помощью многокомпонентных наноструктурных тонкопленочных покрытий / Ю. В. Панфилов, И. В. Гладышев, Е. А. Левашов и др. // Справочник. Инженерный журнал. — 2004. № 4. — С. 4042.
  49. В.М. Структурные превращения в тонких пленках М.: Металлургия, 1988. -173 с.
  50. Л.С. Механизм образования и субструктура конденсированных пленок М.: Наука, 1972. — 203 с.
  51. Н.В. Особенности формирования дислокационной структуры в промышленных монокристаллах арсенида и фосфида галлия большого диаметра: Автореф. дис.. канд.техн.наук. -М., 2002. 27 с.
  52. Ю.И. Введение в нанотехнологию — М.: Машиностроение-1, 2003.-112 с.
  53. В.М. Рост и структура тонких пленок и нитевидных кристаллов М.: Металлургия, 1989. — 205 с.
  54. Л., Глэнг Р. Технология тонких пленок (Справочник). Пер. с англ. М.: Советское радио, 1977. — 768 с.
  55. М.С. Технология упрочнения. Методы упрочнения М.: Л.В.М. — Скрипт, Машиностроение, 1995. — 688 с.
  56. Ю.В. Анализ технологии вакуумного формирования сверхтонких пленок // Микросистемная техника. — 2001. № 1. — С. 22−25.
  57. Д.В. Закономерности фазовых и структурных превращений в многокомпонентных сплавах и керамических пленках. Автореф. дис.. д-р.физ.-мат.наук. М., 2001. — 46 с.
  58. Исследование влияния ионной бомбардировки на рост пленок ниобия / В. В. Наумов, В. Ф. Бочкарев, А. А. Горячев и др. // Высокие технологии в промышленности России.: Сб. докл. 8-ой Международной научно-техн. конф. М., 2002. — С. 33−36.
  59. Е.В., Доценко С. Ю. Использование пылевой плазмы в технологии тонких пленок // Высокие технологии в промышленности России.: Сб. докл. 8-ой Международной научно-техн. конф. -М., 2002. С. 81−83.
  60. Е.И. Искусственная эпитаксия М.: Наука, 1988. — 176 с.
  61. Р.И., Осипов А. В., Панфилов Ю. В. Синтез тонкопленочных покрытий с повышенными прочностными свойствами // Вакуумная наука и техника.: Сб. докл. 8-ой научно-техн. конф. с участием зарубежных специалистов.-М., 2001.-С. 145−150.
  62. .Ф. Введение в физическую химию и кристаллохимию полупроводников. Под ред. В. М. Глазова. 3-е изд., испр. и доп. М.: Высшая школа, 1982.-528 с.
  63. Исследование влияния стационарного ВЧ-разряда на процесс формирования покрытий, наносимых методом КИБ / Г. И. Костюк, А.Ю.
  64. , С.В. Гулый и др. // Вакуумные технологии и оборудование: Сб. докл. 4-ого Международного симпозиума Харьков, 2001. — С. 239−250.
  65. К природе невоспроизводимости структуры и свойств твердотельных материалов / Н. В. Бодягин, С. П. Вихров, С. М. Мурсалов и др. // Микроэлектроника. 2002. — № 4. — С. 307−313.
  66. Способ определения твердости субтонких защитных покрытий / М. К. Бойченко, Ю. А. Быков, С. Д. Карпухин и др. // Состояние и проблема измерений: Сб. докл. 8-ой Всерос. научно-техн. конф. — М., 2002. — С. 109−110.
  67. Ю.А., Карпухин С. Д. Способ определения твердости субтонких защитных покрытий // Справочник. Инженерный журнал. 2003. — № 10. — С. 26−30.
  68. S. J., Haussmann М., Reiprich S. // Surf. Coat. Technol. 1996. -Vol. 86−87. — P. 394.
  69. Xiaodong Li, Bharat Bhushan. Measurement of fracture toughness of ultra-thin amorphous carbon films // Thin Solid Films. 1998. — Vol. 315. — P. 214−221.
  70. W.C., Pharr G.M. // J. Mater. Res. 1992. — Vol. 7 — P. 1564.
  71. А.П., Бабушкина H.A., Братковский A.M. Под ред. Григорьева И. С., Мейлихова Е. З. Физические величины: Справочник М.: Энергоатомиздат, 1991. — 1232 с.
  72. Ding J., Meng Y., Wen S. Mechanical properties and fracture toughness of multilayer hard coatings using nanoindentation // Thin Solid Films. 2000. — Vol. 371.-P. 178−182.
Заполнить форму текущей работой